MKS 全新 πMFC 系列重磅上市面向先进制程，金属密封质量流量控制

MKS Instruments 发布新一代 πMFC 系列质量流量控制器，结合成熟的临界壅塞流原理与 Autoflow 自适应智能算法，专为 3nm 及以下半导体刻蚀、ALD、CVD、离子注入等先进工艺打造，兼顾超高纯度、强腐蚀介质耐受、宽域流量自适应能力，解决先进制程特种气体、前驱体蒸汽的精密输送难题，同时降低半导体工厂设备运维成本，提升晶圆产线稼动率。

本次推出的 πMFC 分为 PFC-50（标准型）与 PFC-60（增强腐蚀型）两大型号，流量覆盖 5sccm 至 50slpm，单台设备内置多量程、多气体参数库，支持几十种半导体常用气体一键切换，无需重新标定。增强版 PFC-60 采用 Inconel 合金膜片与全金属密封结构，取消橡胶密封圈，杜绝有机析出，耐受氟化气体、硅烷、等高腐蚀、高活性特种气体，非常适合刻蚀腔、原子层沉积工艺的微量前驱体输送。配套升级新一代 Baratron 电容压力计，搭载恒温控制模块，压力测量分辨率 0.001mbar，抗氟气腐蚀，大幅降低长期零漂，延长传感器校准周期。

πMFC 核心亮点是集成升级版 Autoflow 自适应控制引擎，针对半导体腔体周期性压力波动做深度优化。传统 MFC 在下游压力变化时流量精度衰减，πMFC 依靠临界流原理，只要上下游压力满足壅塞条件，流量仅由上游压力决定，配合 Autoflow 实时补偿供气扰动，在变压工艺下依然维持 ±0.2% 设定值高精度控制。阶跃响应时间缩短至 50ms，流量切换平稳，抑制流量冲击，保护工艺腔体。设备内置丰富的自诊断功能，实时监测阀座泄漏、传感器偏移、管路堵塞，提前预警潜在故障，减少 “误更换"，降低备件消耗。

硬件设计采用 Class100 洁净车间制造，内表面电抛光处理，氦检漏率＜1×10⁻⁹ atm・cc/s，满足超高纯气体输送洁净度要求。通讯接口支持 EtherCAT、Profinet、RS485、模拟 0-5V/4-20mA，1ms 高速数据刷新，可无缝接入主流半导体设备工控平台。设备自带网页内嵌管理界面，工程师通过浏览器直接配置气体类型、量程、查看实时曲线与故障日志，无需专用软件，简化产线调试工作。

πMFC 在硬件层面实现模块化设计，阀体、传感器、驱动电路独立单元，便于现场维护更换，缩短停机维修时长。软件支持远程固件升级，后续新算法、新气体参数可在线更新。除半导体晶圆制造外，该新品同样适配光伏薄膜沉积、MOCVD、特种材料气相合成等精密工艺。MKS πMFC 系列将压力式 MFC 的稳定性、抗腐蚀能力与智能自适应算法融合，解决先进制程微量腐蚀气体控流痛点，帮助芯片制造企业提升薄膜均匀性、降低批次差异，提升晶圆良率，是下一代半导体气体输送系统的核心流量控制装备。