MKS发布新一代电容压力计与升级版临界流赋能先进半导体特种气体工艺

MKS 作为全球半导体真空、特种气体流量控制、精密光学领域，依托 Baratron® 电容压力计、临界流壅塞质量流量控制器、真空规等核心技术，面向先进制程刻蚀、薄膜沉积、前驱体输送工艺，正式发布新一代 Baratron 恒温电容压力计与升级款临界流 MFC，同时推出 Spectra-Physics Talon Mark 紫外激光新品，覆盖半导体流体测控与精密微加工两大技术赛道，解决先进制程特种腐蚀性气体、低蒸气压前驱体蒸汽流量控制痛点。

本次流体测控核心新品为新一代Baratron® 恒温电容压力计，针对半导体严苛工艺环境升级膜片材质与恒温控制系统。全新型号采用优化 Inconel 合金敏感膜片，抗氢脆、抗卤素腐蚀，可长期接触氯化物、硅烷、臭氧等强腐蚀特种气体；恒温模块进一步优化温度控制算法，降低温度漂移，压力测量精度提升，长期零点漂移大幅降低。膜片与电极之间的电容腔室结构优化，提升压力信号响应速度，兼顾绝对压力测量与真空监测，可独立用于工艺腔室压力闭环控制，也作为核心传感元件搭载在 MKS 临界流 MFC 内部。

同步发布升级款临界流壅塞 MFC，延续经典壅塞流物理原理：当节流小孔上游压力达到下游两倍以上，气体进入临界状态，质量流量仅取决于上游压力，不受下游压力波动干扰。新款 MFC 优化内部比例阀响应特性，提升动态流量调节速度，最小可控流量低至 0.5sccm；全金属焊接密封结构，无有机弹性密封圈，杜封圈析出污染晶圆，适配低蒸气压液态前驱体汽化输送，可计量蒸汽介质，摆脱传统热式 MFC 依赖气体热传导系数的局限，不受气体组分变化干扰。产品支持 EtherCAT、Modbus 等高速数字总线，可接入半导体集群设备控制系统，支持多路气体配比同步控制，提升晶圆批次工艺一致性。

光学产品线同步推出 Spectra-Physics Talon Mark 系列紫外纳秒激光，UV15、UV20 型号平均功率分别可达 15W、20W，脉冲能量最高 400μJ，搭载首脉冲抑制、按需脉冲 POD 功能，专为高速高精度打标、微切割、晶圆标识设计。激光采用紧凑型一体化结构，降低客户设备集成难度，长期运行稳定性提升，降低设备维护成本，适配半导体晶圆、PCB、食品包装高速打标场景。

MKS 新品延续模块化设计，支持客户按需选配通讯协议、接液合金材质、防爆与高纯版本。新一代 Baratron 压力计与临界流 MFC 组合方案，解决先进制程中特种腐蚀性气体、前驱体蒸汽流量计量难题，减少工艺波动，提升良率。MKS 持续打通真空检测、压力传感、特种气体流量闭环控制、激光微加工全链路产品矩阵，助力半导体、精密制造企业攻克下一代工艺技术瓶颈