MKS 成功中标国内半导体晶圆制造项目MFC 精密气体流量控制方案落地

美国 MKS Instruments 近日传来重大中标喜讯，成功中标国内头部晶圆制造企业工艺气体测控成套项目，项目将批量采用 MKS P9B 高性能质量流量控制器、真空计与等离子体配套模块，用于刻蚀、薄膜沉积核心工艺段，为芯片产线提供高精度、高稳定性的气体流量闭环控制，助力国内半导体产线工艺良率提升。本次中标标志 MKS 气体测控方案持续获得制程产线认可，巩固其在半导体工艺气体控制领域龙头地位。

本次中标项目覆盖多条工艺管线，选用 MKS P9B 系列多量程多气体 MFC，搭载 MEMS 传感芯片与新一代阀控组件，控制时间低于 750ms，设定点控制精度可达 ±1%，支持氦气、六氟化硫等轻重多种工艺气体，内置气体参数数据库，仅通过网页界面即可切换气体类型与流量量程，大幅减少产线备件库存压力。区别于传统单量程 MFC，P9B 具备压力不敏感特性，当上游供气压力波动时，依然稳定输出目标质量流量，规避压力扰动造成薄膜厚度不均、刻蚀形貌偏差问题。配套 MKS 真空传感器实时监测腔体真空度，与 MFC 联动，实现气体流量、腔压协同闭环调控，保障半导体工艺一致性。

该晶圆项目对设备稳定性、通讯兼容性、故障自诊断能力提出严苛要求。MKS 方案支持以太网通讯，内置网页诊断界面，运维人员远程读取实时流量、设备状态、故障代码，便于产线在线巡检。产品自带完整自检测功能，可识别零点漂移、阀门异常、传感器故障，及时预警，降低非计划停机风险。半导体刻蚀与沉积工艺，气体配比精度直接决定晶圆良率，微小流量偏差就会造成批量产品报废，MKS 质量流量控制器直接计量气体质量，不受温度压力干扰，是先进制程核心测控元器件。

MKS 深耕半导体精密工艺四十余年，产品覆盖质量流量控制器、真空测量、射频等离子体电源、光学检测设备，广泛应用于 3D NAND、DRAM、逻辑芯片制造。近年来持续加码中国市场，扩建广州制造基地，本土技术支持、维修校准服务网络，缩短交付周期，保障项目落地后的现场技术支撑。除晶圆制造外，MKS 产品同样大量应用光伏电池镀膜、光学薄膜、特种气体实验室配比场景。

本次中标是 MKS 在国内半导体领域又一标志性项目，也是国产芯片产线引进国际工艺测控设备的重要案例。MKS 项目负责人表示，将协同国内集成商，完成设备交付、安装标定与人员培训，保障产线顺利投产。未来 MKS 将持续优化产品，推出适配国产工艺平台的测控模块，强化本土服务能力，持续服务国内半导体、新能源制造产业升级