近期,美国 MKS Instruments(万机仪器)成功中标国内燕东科技 12 英寸铜工艺产线设备采购项目,中标标的为定制化残余气体分析仪 RGA,用于半导体晶圆制造真空腔体气氛检测、杂质气体分析,实时监测腔体内部微量污染物,保障薄膜沉积、刻蚀工艺稳定性。本次中标是 MKS 在国内 12 寸成熟制程产线的又一重要订单,同时 MKS 臭氧发生器、激光钻孔设备在 PCB、半导体配套项目持续中标,持续深化国内半导体产业链布局。
半导体制造真空环境管控直接决定晶圆良率,刻蚀、沉积腔体内部微量水汽、碳氢、金属杂质会造成晶圆缺陷。残余气体分析仪 RGA 可对真空腔内气体组分做定性定量分析,检测 ppb 级别微量杂质,用于腔体检漏、工艺配方优化、设备预防性维护。本次招标针对 12 英寸铜互连工艺定制开发,需要适配高真空工况,耐受工艺副产物腐蚀,具备快速扫描、长期稳定检测能力。经过多轮技术答辩、设备性能对比、可靠性评估,MKS 残余气体分析仪方案中标。MKS RGA 依托质谱分析技术,响应迅速,支持集成到产线自动化控制系统,实时上传气体组分数据,实现异常提前预警,降低批量晶圆报废风险。
除半导体真空分析设备外,MKS 旗下 ESI 激光钻孔系统在国内 HDI 柔性 PCB 项目多次斩获批量订单。5G 高频 FPC 电路板制造环节,MKS CapStone 激光钻孔系统实现微小盲孔高精度加工,国内头部 PCB 企业一次性采购数十台设备,解决高阶 HDI 板微小孔径加工难题,支撑通信 PCB 产能扩张。绵阳半导体配套项目,MKS 臭氧发生器成功中标,臭氧用于晶圆表面清洗,属于半导体湿法清洗核心工艺装备。MKS 安美特化学品与配套设备在广州基地扩建,加码国内半导体材料市场。
MKS Instruments 是先进工艺解决方案龙头,业务覆盖真空测量、气体分析、激光加工、等离子体控制、特种化学品,产品广泛用于半导体、PCB、光学、新能源、生命科学。半导体工厂的真空规、压力控制器、RGA 残余气体分析仪、等离子体电源是其核心产品线,贯穿晶圆刻蚀、沉积、清洗全工艺流程。MKS 设备的优势在于高稳定性、高集成度,支持工厂 SECS/GEM 通讯协议,无缝对接晶圆厂 MES 系统,具备的故障诊断、数据溯源能力,适配 24 小时不间断量产工况。
本次中标项目将由 MKS 中国团队负责设备交付、现场安装调试、校准与年度维保。半导体产线设备对交付周期、现场技术支持要求严苛,MKS 依托国内技术服务中心,缩短售后响应时间。当前国内成熟制程、特色工艺产线持续扩产,真空检测、气体分析设备需求稳步提升。MKS 持续深耕国内半导体市场,积极参与国内各大晶圆厂、PCB 厂商招标项目,持续提供真空测控、气体分析、激光加工一体化方案,助力国内半导体产线良率提升与工艺迭代。
2026-10-24
2026-10-24
2026-10-24
2026-10-24
2026-10-24
Copyright © 2026 中发能源(北京)有限公司 版权所有 备案号:京ICP备2026057587号-2
技术支持:化工仪器网 管理登录 sitemap.xml