【简介】MKS美国-流量控制器-阀关断泄漏率低
阀门关闭后残余漏气量极小，可有效阻断残余气体渗入工艺腔体。避免待机阶段微量气体污染制程，保障腔体本底洁净，适配半导体、镀膜高纯供气工艺

MKS美国-流量控制器-阀关断泄漏率低

MKS美国-流量控制器-阀关断泄漏率低

MKS 数字型气体质量流量控制器具备阀关断泄漏率低的优异特性，采用精密阀座密封结构，阀门关闭后残余漏气量极低，可有效阻断待机状态下微量气体渗入工艺腔体，广泛用于半导体、真空镀膜、光伏薄膜、精密气相合成等高洁净高纯供气工艺，消除待机残余气体带来的腔体污染问题。

普通流量控制器阀门关闭后存在一定内漏，在待机、工艺间歇阶段，上游气源会持续有微量气体越过阀座流入下游腔体。在 ALD、薄膜沉积、等离子刻蚀等精密制程中，这类微量泄漏会抬升腔体本底浓度，产生首片效应，造成第一片晶圆薄膜组分、厚度异常；多气体轮换工艺中，残余气体还会引发气路交叉污染，破坏腔体洁净环境，导致批次良率波动。MKS 这款 MKS MFC 优化阀座与密封结构，严格控制阀关断泄漏率，阀门收到关断指令后实现可靠密封，大幅抑制待机阶段的气体内渗，维持腔体本底洁净，消除残余气体对下一轮工艺的干扰。

产品搭载高性能传感单元与高速数字处理芯片，低泄漏密封设计不影响流量闭环调节性能，微量供气至满量程区间流量测控精度稳定。阀体可选全金属密封结构，泄漏率低，流道洁净，兼容惰性气体、反应气体以及各类腐蚀性特种工艺气体，满足半导体等高洁净工艺标准。

通讯接口配置丰富，支持模拟信号、RS485、EtherCAT 等主流工业总线，可无缝接入自动化控制系统，远程读取实时流量、阀状态，便于监测阀门关断后的零点状态，判断是否存在泄漏隐患。每台 MKS 流量控制器出厂均完成阀关断密封性检漏测试，验证内漏指标，保障长期使用密封可靠。整机结构经过抗振优化，适配设备狭小舱内安装，运维周期更长。

在半导体晶圆刻蚀、薄膜沉积、光学涂层、材料科研等场景，腔体本底洁净度直接决定工艺重复性。MKS 凭借阀关断泄漏率低的特性，在工艺间歇阶段可靠阻断气源，避免残余气体渗入腔体，消除首片效应与气体交叉污染，稳定把控工艺气体配比，缩小批次间工艺差异，提升成品良率。依靠优异的关断密封能力，该流量控制器成为高洁净、间歇时序精密供气场景的优选元器件。