【简介】Brooks布鲁克斯-密封压力控制器-控压精准
闭环 PID 控制实现高精度稳压，密封流道泄漏率低，响应速度快，支持多协议通讯，适配半导体真空工艺，动态工况下压力控制稳定。闭环 PID 控制实现高精度稳压，密封流道泄漏率低，响应速度快，支持多协议通讯，适配半导体真空工艺，动态工况下压力控制稳定。

Brooks布鲁克斯-密封压力控制器-控压精准

Brooks布鲁克斯-密封压力控制器-控压精准

Brooks 布鲁克斯密封压力控制器采用闭环 PID 控制架构，具备优异的控压精度与快速响应能力，可在动态流量负载下稳定维持设定压力，搭配高可靠密封流道，适配半导体刻蚀、薄膜沉积、气相沉积等精密气体工艺，保障制程压力一致性。

半导体精密工艺对腔体压力稳定性要求严苛，传统机械式调压阀存在迟滞与压力偏移问题，当工艺流量波动时，压力容易产生漂移，直接影响薄膜均匀度与晶圆良率。布鲁克斯密封压力控制器依托内置压力传感器与高速控制阀形成闭环反馈，实时修正压力偏差，消除传统调压的压降与回差缺陷，在流量变化时依旧保持压力稳定。

设备提供弹性密封与全金属密封两种选型，全金属流道可耐受卤素、腐蚀性工艺气体，流道经电解抛光处理，低放气、低颗粒析出，满足半导体洁净工艺要求。模块化阀体设计泄漏等级高，避免气体渗漏带来的压力扰动。内置高速处理单元，响应迅速，缩短压力建立时间，提升产线吞吐效率。

产品支持 0~10VDC、4-20mA 模拟量及 RS485、DeviceNet 等数字通讯接口，方便接入 PLC 与气体柜控制系统。出厂多点标定，具备良好重复性，长期运行漂移小，减少现场校准频次。还支持上下游双向控制，适配多样化气路布局。

密封结构兼顾气密性与介质兼容性，闭环控制解决动态工况压力不稳痛点。凭借高精度闭环稳压、高完整性密封流道、快速动态响应、多通讯协议适配，Brooks 布鲁克斯密封压力控制器是半导体精密气体管路压力控制的核心设备。