【简介】Brooks布鲁克斯-密封压力控制器-响应迅速
闭环 PID 控制响应迅速，可快速补偿流量波动，全金属密封流道耐腐蚀，多通讯可选，适配半导体真空精密气体压力控制。

Brooks布鲁克斯-密封压力控制器-响应迅速

Brooks布鲁克斯-密封压力控制器-响应迅速

Brooks 布鲁克斯密封压力控制器搭载高速闭环 PID 控制算法，动态响应迅速，可快速补偿工艺流量突变带来的压力扰动，短时间内将压力稳定在设定值，适配半导体刻蚀、薄膜沉积、CVD 等工艺，应对脉冲供气、流量瞬变等严苛工况。

半导体优良制程常存在气体流量快速切换、脉冲式供气场景。普通压力控制器调节速度慢，流量突变时压力容易出现超调、震荡，造成工艺参数波动，影响薄膜厚度均匀性与晶圆良率，延长工艺等待时间，降低产线产能。布鲁克斯这款密封压力控制器依托内置压力传感与高速执行阀，实时采集压力信号并快速调整阀门开度，抑制压力超调，缩短稳压建立时间。

设备流道采用高可靠密封设计，可选全金属密封结构，耐受卤素、臭氧等腐蚀性工艺气体，流道电解抛光处理，低放气、低颗粒产生，满足半导体洁净工艺标准。阀体密封性能优异，泄漏率低，杜绝外部气体渗入或工艺气体外泄引发的压力干扰。

控制器具备优秀的重复性与长期稳定性，出厂多点标定，压力控制精度高。支持 0~10VDC、4-20mA 模拟输出，RS485、DeviceNet 等数字通讯接口，方便接入 PLC、气体柜控制系统。可支持上下游双向压力控制，灵活匹配不同气路布局。

高速动态调节能力，大幅缩短压力稳定时间，抑制流量波动造成的压力震荡。凭借快速响应闭环控制、高完整性密封流道、低颗粒洁净设计、多通讯协议适配，Brooks 布鲁克斯密封压力控制器是半导体动态工艺气体压力控制的核心精密设备。