【简介】MKS美国-流量控制器-流量总量累计功能
可实时记录气体累积通入量，支持数据远程读取。便于工艺定量管控与耗材核算，简化制程追溯，适配半导体、真空镀膜等精密工艺。

MKS美国-流量控制器-流量总量累计功能

MKS美国-流量控制器-流量总量累计功能

MKS 数字型气体质量流量控制器内置流量总量累计功能，可实时自动统计气体累积通入总量，配合总线通讯实现数据远程读取与存储，为半导体、真空镀膜、光伏薄膜、气相合成等工艺提供定量供气管控、制程追溯能力，是数字化精密供气系统的实用功能模块。

传统气路方案如需统计气体总消耗量，往往需要额外加装独立累积流量计，增加气路组件、占用设备内部空间，还会引入额外的测量误差。MKS 将流量总量累计集成于 MFC 本体，依托内部高速数字采集单元，基于实时质量流量读数持续积分运算，自动累加气体总通入量，无需外接计量器件。总量数据可实时保存，支持一键清零，方便按批次、按晶圆、按实验分组独立统计耗气量，简化工艺定量管控流程。

该累计功能与流量测控单元共用同一高精度传感信号，保证累计总量的可信度。支持与设备工艺时序联动，在工艺启动与结束阶段自动记录累计数据，便于追溯每一批次产品的气体总消耗量，用于工艺复盘、耗材核算与良率关联分析。阀体可选全金属密封结构，泄漏率低，流道洁净，兼容惰性气体、反应气体以及各类腐蚀性特种工艺气体。

通讯接口配置丰富，支持模拟信号、RS485、EtherCAT 等主流工业总线，可无缝接入自动化控制系统，实现远程读取累计流量、运行时长等信息，支持上位机数据归档与故障预警。每台 MKS 流量控制器出厂完成流量标定，累计积分算法经过验证，保障总量统计的准确性。整机结构经过抗振优化，适配设备狭小舱内安装，运维周期更长。

在半导体晶圆刻蚀、薄膜沉积、光学涂层、材料科研等场景，工艺需要精准管控单次制程的气体总通入量，耗气量数据也是工艺优化与成本核算的关键依据。MKS 依托内置流量总量累计功能，省去外置累计仪表，简化气路设计，实现气体用量自动记录、批次数据可追溯，方便工程师进行工艺复盘与耗材管理，提升产线数字化管控水平。凭借一体化累计计量能力，该流量控制器成为需要定量供气、制程溯源的精密制造场景优选元器件。