【简介】MKS美国-流量控制器-支持20组气体校准参数
内置可存储 20 组独立气体校准参数，单台设备可快速切换不同工艺气体，支持自定义录入参数。减少 MFC 备货数量，缩短换型调试时间，适配半导体、镀膜多气体工艺

MKS美国-流量控制器-支持20组气体校准参数

MKS美国-流量控制器-支持20组气体校准参数

MKS 数字型气体质量流量控制器，设备内部可存储 20 组独立气体校准参数，每组参数配套专属标定数据与 PID 控制参数，现场可直接调取切换，无需返厂重新标定，广泛应用于半导体、真空镀膜、光伏薄膜、气相合成等多气体轮换工艺，为柔性化精密供气提供支撑。

常规流量控制器大多仅内置少量气体换算系数，更换特种工艺气体时容易出现精度衰减；如需适配多种气体，产线需要采购多台不同标定规格的 MFC，备件库存压力大，换型时拆装、停机标定耗时久。MKS 这款 MFC 可保存最高 20 套完整气体校准档案，除氮气、氩气、氦气、氢气等常用气体外，用户还可录入自定义特种气体、混合气体标定参数，每套参数独立配套对应的控制整定模型，切换气体时同步调用适配的 PID 算法，保障不同介质下流量控制稳定。

产品搭载高性能传感单元与高速数字处理芯片，调取任意一组气体参数后，从微量供气至满量程区间均可维持原有测控精度，不会因气体切换造成性能衰减。阀体可选全金属密封结构，泄漏率低，流道洁净，兼容惰性气体、反应气体以及各类腐蚀性特种工艺气体，满足半导体等高洁净工艺标准。

通讯接口配置丰富，支持模拟信号、RS485、EtherCAT 等主流工业总线，可无缝接入自动化控制系统，远程完成气体参数调取、切换、流量采集与设备状态监测。每台 MKS 流量控制器出厂经过多气体标定验证，20 组参数存储区经过可靠性测试，长期调用不会丢失标定数据。整机结构经过抗振优化，适配设备狭小舱内安装，运维周期更长。

在半导体晶圆刻蚀、薄膜沉积、光学涂层、材料科研等场景，同一条工艺腔经常需要轮换多种工艺气体完成掺杂、刻蚀、沉积工序。MKS 凭借可存储 20 组气体校准参数的能力，单台 MFC 覆盖多种工艺介质，大幅减少产线 MFC 备货型号，降低备件采购与库存成本。气体切换仅需软件调用参数，省去拆机更换、返厂标定等步骤，缩短工艺换型停机时间，保障气体切换后流量配比稳定，缩小批次工艺差异，提升设备稼动率。依托大容量气体参数存储能力，该流量控制器成为多介质、频繁换型精密制造供气场景的优选元器件。