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MKS美国-压力传感器-绝对压力测量型

【简介】MKS美国-压力传感器-绝对压力测量型
传感腔内置固定真空参考基准,直接测量绝对压力,不受环境大气压波动干扰,适用于半导体真空工艺精密绝压监测。

产品型号:750D13PFE2GA
更新时间:2026-10-08
厂商性质:经销商
访问量:27
产品介绍

MKS美国-压力传感器-绝对压力测量型

MKS美国-压力传感器-绝对压力测量型

MKS 美国 Baratron 电容薄膜压力传感器属于绝对压力测量型传感器,传感单元内部集成密封高真空参考腔,以真空作为压力基准,直接测得介质绝对压力,不受外界大气压波动影响,广泛用于半导体等离子刻蚀、薄膜沉积、真空科研等精密真空工艺。

普通表压传感器以现场环境大气压作为参考基准,大气压力随天气、海拔变化,会直接带入测量误差。在真空制程中,工艺腔体压力本身远低于大气压,采用表压测量方式,大气压的微小波动会叠加到读数之中,难以获取腔体真实压力,极易造成工艺控制偏差,无法满足真空制程要求。

MKS Baratron 绝压传感器核心结构由 Inconel 合金弹性膜片与密封真空参考腔组成。膜片一侧接触被测工艺气体,另一侧为预先抽成高真空并密封的参考腔,参考腔真空度长期稳定。被测介质压力与参考真空之间形成压差,驱动弹性膜片产生微量形变,改变膜片与固定电极的间距,电容信号随之变化。传感器采集电容信号,换算得到被测介质的绝对压力值,测量基准不依赖外部大气。

传感器出厂完成全量程多点标定,并搭载温度补偿电路,抑制温度变化引起的膜片应力漂移,保证绝压读数长期稳定。该测量原理为力学式检测,测量结果与气体种类无关,无论通入氮气、氩气或是各类腐蚀性工艺气体,均可输出可靠的绝对压力真值。同时具备低迟滞、高分辨率特性,微弱压力变化也能被精准捕捉。

在半导体晶圆制造工艺中,腔体工艺压力以绝对压力作为工艺标准。环境大气压昼夜、季节波动会干扰表压式仪表读数,而 MKS 绝压传感器始终以内部真空为基准,持续输出真实绝压,为真空泵、压力调节阀提供稳定闭环反馈,保障等离子体状态稳定,保证刻蚀与镀膜的工艺一致性,提升产品良率。

凭借内置真空基准的绝对压力测量特性,传感器消除大气压扰动带来的测量误差,数据可溯源,校准周期更长,降低现场维护工作量,成为真空领域绝压监测的核心测量设备。


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