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MKS美国-压力传感器-抛光接液表面

【简介】MKS美国-压力传感器-抛光接液表面
Inconel 合金浸润面精密抛光,表面光滑。减少副产物吸附附着,降低缝隙藏污,便于清洁,适配半导体洁净腐蚀真空工艺。

产品型号:220DA-00010B2B
更新时间:2026-10-17
厂商性质:经销商
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产品介绍

MKS美国-压力传感器-抛光接液表面

MKS美国-压力传感器-抛光接液表面

MKS Baratron 巴特拉压力传感器采用精密抛光接液表面,浸润面 Inconel 镍基合金经过金属抛光处理,表面粗糙度极低,减少工艺副产物吸附与堆积,降低缝隙藏污风险,是半导体等离子腐蚀、高洁净真空工艺的关键表面设计。

普通未抛光金属表面存在大量微观凹坑,在等离子工艺环境下,聚合物、卤化物副产物极易附着并沉积在凹凸缝隙中,污染物持续累积,慢慢改变膜片力学特性,引发零点漂移,增加维护难度。MKS 对 Inconel 合金浸润面实施精密抛光,抹平表面微观孔洞与划痕,形成光滑平整金属表面,大幅降低工艺沉积物的吸附附着力,污染物不容易粘附在膜片表面,减轻表面污染。

搭配恒温闭环控温的型号,抛光表面 + 高温双重防护,副产物更难冷凝附着,延缓零点漂移,延长校准周期;常温款抛光表面同样可以减少洁净气体工况下的微量吸附。整体为全焊接金属密封结构,没有有机密封垫圈,避免有机材料放气污染真空腔体,维持高洁净特性。Inconel 镍基合金本身耐卤素等离子腐蚀,抛光后钝化膜均匀完整,抗离子溅射侵蚀的能力进一步提升,减少局部点蚀风险。

传感核心径向张拉膜片保持稳定力学性能,低迟滞、高分辨率,力学电容测压实现气体无关测量,介质切换不影响抛光表面的抗吸附能力。芯体配备膜片限位基座与双层安全壁,抵御瞬时过压冲击,防止膜片塑性破损。传感器输出 0–10V 标准模拟信号,对接压力控制器、PLC,实现压力实时监测、闭环调控以及超压联锁保护。

半导体干法刻蚀、CVD 薄膜沉积工艺,对腔体洁净度要求,表面沉积物会缓慢改变压力测量基准,带来批次良率波动。MKS 巴特拉传感器抛光接液表面,降低污染物附着概率,减少表面污染物累积,降低零点漂移风险,减少设备维护清洁频次。广泛应用于半导体、光学镀膜、科研真空等高洁净腐蚀性真空测控场景,兼顾高精度计量、耐介质腐蚀与易清洁特性。


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