【简介】MKS美国-压力传感器-恒温控温传感版本
内置温控单元稳定传感元件温度，消除温变引发的膜片应力漂移，保障真空工艺长时间高精度压力检测。

MKS美国-压力传感器-恒温控温传感版本

MKS美国-压力传感器-恒温控温传感版本

MKS 美国 Baratron 电容薄膜压力传感器恒温控温版本，搭载内置恒温控制系统，将传感膜片与电容检测单元维持在固定温度，消除环境温度波动带来的膜片应力与零点漂移，保障长时间连续工况下的高精度压力检测，多用于半导体等离子刻蚀、薄膜沉积等高精密真空制程。

普通无恒温的传感器，传感膜片特性会随环境温度变化而改变。温度升降会引发 Inconel 合金膜片热胀冷缩，产生附加机械应力，带来零点偏移与读数误差。在半导体设备腔体周边，工艺放热、冷却水波动、车间昼夜温差都会持续扰动传感器温度，尤其在需要长期稳定监测的高真空低压区间，微小温漂会直接转化为压力测量偏差，影响等离子体状态稳定。

恒温版本在传感头部集成加热元件与温度感应组件，闭环温控电路持续工作，把传感单元稳定维持在设定温度，常见如 45℃、60℃、100℃等档位。无论外界环境冷热变化，膜片、电容极板的工作温度保持恒定，从根源抑制材料热胀冷缩效应，消除温度诱发的机械形变与应力漂移。

该产品延续 Baratron 经典电容薄膜测量原理，采用 Inconel 镍基合金弹性膜片，具备超低迟滞、高重复性、高分辨率等固有优势。每台传感器在恒温条件下完成出厂全量程标定，标定环境与实际工作温度保持一致，进一步降低测量误差。同时内置高真空参考腔与吸气剂，保证绝压基准长期稳定，测量结果不受气体种类影响。

在半导体连续生产场景，工艺腔体长时间处于热循环状态，传感器所处环境温度起伏较大。恒温型 Baratron 可屏蔽热扰动，持续输出稳定压力信号，为真空泵、工艺气体调节阀提供精准闭环反馈，稳定腔体真空度，保证每一批次晶圆刻蚀、镀膜工艺参数一致，降低批次不良率。

恒温控温设计大幅压低零点温漂指标，拉长现场校准周期，减少设备停机维护频次。该型号适合对温度扰动敏感、要求长期不间断高精度监测的严苛真空工艺，是半导体设备精密压力测控的优选方案。