【简介】MKS美国-压力传感器-镍基合金接液膜片
耐各类工艺气体腐蚀，抗离子侵蚀，膜片蠕变小、形变可逆，适配半导体含腐蚀性介质真空压力检测

MKS美国-压力传感器-镍基合金接液膜片

MKS美国-压力传感器-镍基合金接液膜片

MKS 美国 Baratron 电容薄膜压力传感器搭载镍基合金接液膜片，直接接触工艺介质，具备优异耐化学腐蚀、抗等离子离子轰击能力，材料蠕变低、弹性形变可逆，保障长期测量稳定，适配半导体各类含腐蚀性介质的真空压力检测。

普通不锈钢膜片在卤素、含氟、氯类工艺气体环境中，易发生化学腐蚀与离子刻蚀。长期工况下膜片表面产生点蚀、粗糙化，改变弹性特性，出现零点漂移、精度衰减，严重时膜片受损失效，需要频繁更换传感器，影响产线连续生产。

镍基合金作为接液核心元件，在成分上添加铬、钼等元素，形成致密钝化保护膜，抵抗卤化物、酸性气相介质的化学侵蚀，同时耐受等离子环境下的离子轰击，延缓膜片损耗。材料弹性性能优异，在外力压差作用下形变均匀，卸载后可快速恢复原状，拥有低蠕变特性，长时间承压不易发生塑性变形。

传感器沿用成熟的电容薄膜测量原理，膜片作为电容极板的一部分，压差带来的微小形变转化为电容信号变化。搭配内置高真空参考腔与吸气剂，稳定绝压基准；可选择恒温加热版本，进一步防止工艺副产物沉积。出厂执行多点标定，保证超低迟滞、高分辨率与良好重复性，测量结果不受气体种类影响。

在半导体刻蚀、薄膜沉积制程中，大量使用含氟、氯等强腐蚀性前驱体与等离子工艺环境。镍基合金接液膜片可抵御介质腐蚀，维持膜片表面平整，稳定采集腔体压力，向真空阀门、真空泵提供精准闭环反馈，稳定等离子状态，保障晶圆刻蚀、镀膜均匀性，降低腐蚀带来的工艺缺陷。

镍基合金接液膜片大幅提升传感器在腐蚀性介质工况下的使用寿命，减少备件更换频次，降低停机维护成本。该材质方案兼顾耐蚀性与精密弹性力学性能，解决强腐蚀工艺下膜片易被侵蚀失效的痛点，是半导体腐蚀性真空环境压力测量的核心选型。