【简介】MKS美国-压力传感器-卤素气体耐受能力
特种耐蚀合金接液结构，抵抗氟、氯类介质腐蚀与等离子轰击，适配半导体含卤素刻蚀真空压力检测

MKS美国-压力传感器-卤素气体耐受能力

MKS美国-压力传感器-卤素气体耐受能力

MKS 美国 Baratron 电容薄膜压力传感器拥有优异的卤素气体耐受能力，全套接液组件采用特种耐蚀合金打造，可抵御氟、氯等卤素气相介质腐蚀以及等离子离子轰击，适用于半导体含卤素刻蚀工艺的真空压力检测。

半导体干法刻蚀制程普遍使用含氟、含氯卤素气体，在等离子激发环境下，会生成高活性自由基与离子。常规不锈钢材质传感器，在卤素氛围中极易发生点蚀与晶间腐蚀，膜片表面持续遭受离子刻蚀，弹性性能逐步劣化，造成零点漂移、测量精度衰减；若配备有机密封圈，还会快速老化降解，释放杂质、产生微泄漏，迫使产线频繁停机更换传感器，影响生产效率。

传感器接液膜片、腔体均选用镍基耐蚀合金，添加铬、钼等合金元素，接触卤素介质后可形成致密稳定钝化保护层，抑制卤素离子侵入基材，抵御化学腐蚀与等离子轰击，延缓表面剥蚀。整机采用全金属焊接密封传感芯体，无橡胶、PTFE 等有机弹性密封件，消除高分子材料在卤素环境下溶胀、分解、释气的风险，同时保持极低放气率，满足半导体洁净工艺要求。

产品依托 Baratron 成熟电容薄膜测量原理，压差驱动合金膜片产生微米级弹性形变并转化为电容信号。可选内置高真空参考腔搭配吸气剂，稳定绝压测量基准；支持恒温加热、高温烘烤配置，可减少卤素反应副产物冷凝沉积。出厂执行 100% 氦检漏和多点标定，具备低蠕变、超低迟滞、高分辨率特性，测量不受气体种类干扰，可选膜片破裂安全收容结构，提升工况安全冗余。

在半导体刻蚀产线，卤素等离子环境对压力监测器件提出严苛考验。该款 Baratron 传感器能够长期稳定采集腔体真空压力，为真空泵、工艺阀组提供可靠闭环信号，稳定腔体内等离子状态，保障晶圆刻蚀轮廓均匀性，降低腐蚀诱发的工艺缺陷。

针对卤素工况做全链路防腐设计，显著延长传感器服役寿命，减少备件更换频次与停机维护成本，解决卤素等离子环境下传感器易腐蚀、易污染、易泄漏的行业痛点，是半导体卤素刻蚀真空压力监测的优选设备。