【简介】MKS美国-压力传感器-半导体洁净室兼容设计
低释气、低掉尘，外壳防尘易清洁，满足 Class1 洁净环境，适配晶圆制造真空压力监测。

MKS美国-压力传感器-半导体洁净室兼容设计

MKS美国-压力传感器-半导体洁净室兼容设计

MKS 美国 Baratron 电容薄膜压力传感器采用半导体洁净室兼容设计，整机低释气、低掉尘，外壳平整光滑易于擦拭清洁，可满足 Class1 等高等级洁净环境，适配晶圆制造产线真空压力监测。

半导体晶圆制造洁净室对悬浮颗粒、挥发性污染物管控极其严格。普通工业传感器外壳缝隙多、涂层易掉屑，装配材料会释放 VOC 杂质，安装运维过程中容易产生微粒，一旦颗粒物飘落在晶圆表面，就会造成电路短路、薄膜缺陷，直接降低芯片良率，因此洁净室设备在材质、结构、表面工艺上都有特殊约束。

该传感器专为洁净环境优化，接液侧采用高纯合金 + 全金属焊接密封芯体，无有机密封件，内腔经过精密抛光，降低吸附与颗粒滞留。外部壳体表面平整无积尘死角，表面涂层稳定不易剥落，拆装维护时微粒产生量低。整机放气率控制在极低水平，不会释放挥发性有机物污染洁净气流。

产品依托 Baratron 经典电容薄膜测量原理，压差驱动合金膜片产生微米级弹性形变，将形变量转化为电容信号输出。可选内置高真空参考腔搭配吸气剂，长期稳定绝压基准；支持高温烘烤、恒温加热配置。出厂执行 100% 氦检漏与多点标定，具备低蠕变、超低迟滞、高分辨率特性，测量不受气体种类影响，可选膜片破裂安全收容结构，提升真空系统安全冗余。

在半导体光刻、沉积、刻蚀等高等级洁净产线，洁净室版 Baratron 传感器可稳定采集腔体真空压力，为真空泵、工艺阀组输出精准闭环控制信号，在不引入微粒与杂质的前提下维持工艺压力稳定，保障芯片制造良率。

从内腔材质、壳体外观到装配工艺做洁净专项优化，减少掉尘与气体析出，方便现场擦拭维护，解决普通工业传感器易产尘、易释气，无法进入高等级洁净室使用的痛点，是半导体洁净车间真空压力监测的核心选型。