【简介】MKS美国-压力传感器-经典电容膜片技术
采用经典电容膜片技术，测量不受气体组分影响，精度高、重复性优异，输出模拟信号，广泛用于半导体真空与精密工艺压力监测

MKS美国-压力传感器-经典电容膜片技术

MKS美国-压力传感器-经典电容膜片技术

MKS Baratron® 电容膜片压力传感器，作为级真空压力测量产品，依托经典电容膜片传感技术，可精准测量绝压，测量结果基本不受气体种类影响，稳定性强，广泛应用半导体制程、真空镀膜、光伏、科研实验、精密工艺腔体等场景，实现真空环境压力在线监测与工艺闭环控制。

传感器核心为超薄金属感压膜片，膜片与固定电极构成电容器。当腔体压力发生变化，压差推动膜片产生微小形变，膜片与电极之间电容值随之改变。内部专用电路采集电容变化，换算为压力数值并输出标准模拟信号。该测量原理仅感知压力带来的机械形变，不依赖气体热传导特性，因此气体组分改变不会显著影响测量读数，相比热传导真空计优势突出。

产品量程覆盖宽，从超高真空到大气压区间均有对应型号，测量精度高、长期重复性优异。传感单元经过温度补偿，弱化环境温度波动带来的测量漂移。壳体与浸润材质可选不锈钢等，适配洁净工艺气体，满足半导体等高洁净工艺要求。输出标准化信号，可直接接入工控系统，用于工艺压力监控、真空检漏、气体流量配比联锁。

对比热偶、皮拉尼类真空计，电容膜片技术不受气体类型影响，工艺更换气体时无需重新校准，大幅降低现场标定工作量。但膜片属于精密薄壁元件，介质含大量颗粒、腐蚀性气体容易造成膜片损伤，选型时需要评估介质，必要时增加前置防护结构。

半导体、真空镀膜等工艺对真空压力控制要求严苛，气体种类经常切换，普通真空仪表容易产生较大测量偏差。MKS Baratron 电容膜片压力传感器凭借成熟的电容膜片核心技术，抗气体组分干扰，测量稳定可靠，为精密真空工艺提供精准压力数据，支撑工艺参数稳定管控，是真空压力监测的经典传感方案。