【简介】MKS美国-压力传感器-超高重复性
具备超高测量重复性，多次压力循环测量数值一致性高，保障真空工艺参数稳定，多用于半导体精密压力测控。

MKS美国-压力传感器-超高重复性

MKS美国-压力传感器-超高重复性

MKS Baratron® 电容膜片压力传感器采用预应力 Inconel 镍基合金张力膜片，具备超低迟滞与超高测量重复性，多次压力升降循环下测量读数一致性优秀，广泛应用半导体刻蚀、真空镀膜、光伏工艺腔体、科研真空系统，为周期性真空工艺提供稳定可复现的压力监测数据。

传感器核心为径向张力设计的超薄合金膜片与固定电极，构成精密电容单元。压力变化带来膜片弹性形变，改变极板间距，电容信号经专用调理电路转换为压力输出。张力膜片经过时效热处理，弹性回位性能优异，压力反复升降后，膜片均可精准回到初始位置，迟滞误差极小，实现超高重复性。在周期性工艺压力循环中，同一压力点每次测得数值偏差微小，保证每一轮工艺条件一致。

产品出厂执行多点读数式标定，搭配内置温度补偿电路，抑制环境温度波动带来的参数偏移。量程覆盖超高真空至常压区间，全焊接金属结构，浸润部件采用耐蚀镍基合金，适配洁净工艺气体。输出标准模拟信号，可接入真空控制器、PLC，用于腔体压力闭环调控、气体流量配比、工艺联锁保护。

常规真空计膜片存在材料迟滞，压力循环后读数偏移，造成批次工艺不一致。MKS Baratron 张力膜片结构大幅降低迟滞效应，提升重复性指标，即便长期反复压力循环，测量数据复现性依旧稳定。但膜片属于精密薄壁元件，腐蚀性气体、粉尘颗粒、冷凝液会造成膜片性损伤，破坏重复性；腐蚀性工况建议选用加热型或者前置隔离防护结构。

半导体、镀膜等行业多为批量循环工艺，每一轮腔体抽真空、充气、泄压，压力参数的复现性直接决定良率。MKS Baratron 压力传感器依托张力合金膜片与低迟滞设计，实现超高测量重复性，每一次工艺循环都可以获取一致可信的压力数据，减少批次间工艺差异，稳定产品良率，是周期性真空精密工艺的理想压力传感解决方案。