【简介】MKS美国-压力传感器-膜片故障密闭防护
膜片破损后可阻隔工艺气体，防止气体外泄，保护后端真空系统，降低半导体工艺安全风险。

MKS美国-压力传感器-膜片故障密闭防护

MKS美国-压力传感器-膜片故障密闭防护

MKS Baratron® 电容膜片压力传感器搭载膜片故障密闭防护结构，当核心感压膜片意外破损时，内置隔离结构可以阻隔工艺气体，防止气体大量外泄或者窜入传感器后端电路腔，保护真空系统与后端精密控制元件，广泛应用半导体刻蚀、薄膜沉积、光伏真空腔体、科研真空系统，实现压力监测同时提升系统安全冗余。

传感器内部设置独立隔离屏障，将工艺湿区与电子传感腔物理分隔。在正常工况下，隔离结构不影响压力传递，膜片正常感知压力变化，依靠电容膜片原理采集压力信号。一旦膜片被腐蚀、颗粒冲击或者超压造成破裂，该故障密闭结构可以快速形成阻隔，限制工艺气体的流动路径，避免腐蚀性、有毒工艺气体向后端电路腔扩散，防止损坏电子元器件，同时减少工艺气体向外部泄漏风险。

产品腔体采用全焊接金属密封结构，无有机密封圈，100% 出厂氦检。湿区材质可选 316 不锈钢、Incoloy、Inconel 耐蚀合金，适配不同等级工艺气体。出厂完成多点读数式标定与温度补偿，保障全量程线性输出、低温度漂移、优异重复性。输出标准模拟信号，可接入真空控制器、PLC 与数据采集系统，用于腔体压力监控、气体配比调节、工艺联锁保护，部分型号支持加热温控、最高 200℃高温版本。

普通真空压力传感器膜片一旦破损，工艺气体会直接涌入传感器后端电路腔，造成电路烧毁，腐蚀性气体还会扩散污染整套真空管路。MKS 的膜片故障密闭防护，在膜片失效后构建隔离屏障，降低二次损坏风险。但该防护属于被动应急防护，不能杜绝泄漏，也无法修复受损膜片，膜片破损后传感器依旧需要更换；恶劣介质工况仍建议配置前置过滤防护，减少膜片损伤概率。

半导体真空工艺常使用有毒、腐蚀性工艺气体，膜片破损引发的气体窜流会造成设备大面积损坏，甚至安全隐患。MKS Baratron 压力传感器配备膜片故障密闭防护，在膜片发生故障时阻断气体扩散，降低事故扩大风险，兼顾精密压力测量与故障安全防护，为使用危险工艺气体的真空工艺提供更安全的压力监测解决方