【简介】MKS美国-压力传感器-抵御卤素腐蚀性气体
可抵御卤素腐蚀性工艺气体，保护膜片不被侵蚀，长期测量稳定，适用于半导体刻蚀真空压力监测。

MKS美国-压力传感器-抵御卤素腐蚀性气体

MKS美国-压力传感器-抵御卤素腐蚀性气体

MKS Baratron® 压力传感器，可选 Inconel 镍基合金、Incoloy 铁镍铬合金湿区版本，可有效抵御卤素类强腐蚀工艺气体侵蚀，保护精密电容膜片，维持测量精度稳定，广泛应用半导体刻蚀、等离子体工艺、含卤素前驱体真空腔体，实现腐蚀工况压力在线监测与工艺闭环控制。

卤素气体（氟、氯及其化合物）在等离子环境下活性，普通不锈钢材料极易发生点蚀，精密膜片一旦被腐蚀，会出现零点漂移、读数失真，甚至膜片穿孔导致传感器失效。Inconel、Incoloy 耐蚀合金湿区，在卤素环境下可生成致密稳定钝化膜，抵抗活性卤素离子攻击。传感器延续经典电容膜片原理，压力变化推动合金膜片产生弹性形变，改变极板电容，调理电路转换为标准压力信号输出，测量结果不受气体种类影响。

产品采用全焊接金属密封腔体，无橡胶密封圈，避免有机材料被卤素气体腐蚀老化。每台传感器 100% 出厂氦检漏，杜绝微漏风险。出厂多点读数式标定搭配内置温度补偿，保障全量程线性输出、低温度漂移、优异重复性。输出标准模拟信号，可接入真空控制器、PLC 与数据采集系统，用于腔体压力监控、气体配比调节、工艺联锁保护。还可叠加加热温控选项，提升防凝露能力，进一步降低腐蚀介质在膜片表面凝结的概率。

常规 316 不锈钢湿面版本不适合卤素工艺，长期使用会快速腐蚀损坏。MKS 耐蚀合金湿区专门针对卤素工况开发，但仍存在适用边界，强氧化卤素环境需要提前评估兼容性；介质中固体颗粒冲刷依旧会磨损膜片，建议增加前置过滤防护。

半导体刻蚀工艺大量使用卤素腐蚀性气体，普通真空计寿命短、漂移严重，频繁更换传感器增加停机成本。MKS Baratron 压力传感器依托 Inconel/Incoloy 耐蚀合金湿区，抵御卤素气体侵蚀，保护核心膜片，长期稳定输出精准压力数据，减少传感器更换频次，降低产线维护停机损失，为含卤素腐蚀气体的半导体真空工艺提供可靠压力监测方案。