产品介绍MKS美国-压力传感器-耐臭氧蒸汽去离子水
MKS美国-压力传感器-耐臭氧蒸汽去离子水
MKS Baratron® 压力传感器可选 Inconel、Incoloy 耐蚀合金湿区版本,可耐受臭氧、饱和蒸汽以及去离子水介质侵蚀,抗氧化能力突出,保护膜片不受氧化介质损伤,广泛应用半导体湿法腔体、洁净清洗系统、臭氧氧化工艺,实现湿法洁净工艺压力在线监测与工艺闭环控制。
臭氧属于强氧化性介质,蒸汽伴随高温,去离子水虽然纯度高,但溶解臭氧后具备较强氧化能力。普通不锈钢湿面在这类工况下,钝化膜容易被破坏,持续氧化腐蚀精密电容膜片,造成零点漂移、测量失准。Inconel 与 Incoloy 铁镍铬耐蚀合金,材料组分经过优化,在臭氧、湿热水环境下可维持稳定钝化层,抵抗臭氧氧化、水汽侵蚀。传感器沿用经典电容膜片原理,压力变化推动合金膜片产生弹性形变,改变极板电容,内部电路将电容信号转换为标准压力输出,测量不受气体组分影响。
传感器采用全焊接金属密封腔体,不含橡胶等有机密封件,防止有机物被臭氧氧化老化、析出污染洁净介质。产品 100% 出厂氦检漏,杜绝微漏隐患;出厂多点标定搭配温度补偿,保证全量程线性输出、低温度漂移、优异重复性。输出标准模拟信号,可接入真空控制器、PLC 与数据采集系统,用于腔体压力监控、气体配比调节、工艺联锁保护。可选加热温控结构,减少水汽冷凝附着膜片,进一步提升工况适应性。
普通压力传感器密封件和湿区材料不耐臭氧氧化,在蒸汽、去离子水混合环境中易老化破损。MKS 耐蚀合金湿区针对性适配这类强氧化洁净湿法工况。但该传感器依旧存在适用边界,高浓度臭氧长期持续冲刷、固体颗粒撞击膜片,依然会造成损伤;恶劣工况建议增加前置隔离防护结构。
半导体湿法清洗工艺大量使用臭氧、高温蒸汽与去离子水,对传感器耐氧化能力与洁净度要求严苛。MKS Baratron 压力传感器依托耐蚀合金湿区,抵御臭氧、蒸汽、去离子水的氧化侵蚀,维持测量精度稳定,减少传感器故障更换频次,降低洁净工艺污染风险,为湿法氧化洁净工艺提供可靠精密压力监测方案
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