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MKS美国-压力传感器-高压可达数千 PSIA

【简介】MKS美国-压力传感器-高压可达数千 PSIA
量程最高可达数千 PSIA,高压工况下保持高精度测量。坚固传感膜片,耐高压冲击,适配半导体工艺、特种高压腔体压力监测

产品型号:141AA-00010DB
更新时间:2026-10-15
厂商性质:经销商
访问量:23
产品介绍

MKS美国-压力传感器-高压可达数千 PSIA

MKS美国-压力传感器-高压可达数千 PSIA

在部分特种半导体工艺、高压气相沉积与高压反应腔体应用场景中,工艺介质压力可达到数千 PSIA 级别。常规真空压力传感器仅适用于低压、真空区间,膜片结构承压上限低,高压环境下易出现形变过载、测量失效甚至元件损坏,难以满足高压腔体的压力闭环监测需求。MKS 推出 Baratron 电容薄膜压力传感器高压版本,量程最高可达数千 PSIA,专为高压精密压力测控场景打造。

该传感器延续 Baratron 成熟电容薄膜测量原理,针对高压工况对传感膜片进行强化设计,选用高强度特种合金制备感应薄膜,可承受数千 PSIA 的工作压力。压力作用于膜片产生形变,通过检测膜片形变引发的电容变化,转换为标准化电信号输出。即便在高压区间,依然维持良好的测量线性度与重复性,解决普通传感器高压段精度衰减问题。

强化的内部机械结构能够抵御瞬时压力冲击,降低压力骤变带来的膜片变形风险。接液接触面具备优良耐化学腐蚀性能,可耐受多种工艺气体,兼顾高压承载与介质兼容性,适配含腐蚀性气体的高压反应环境。传感器电路模块经过抗干扰优化,在高压设备复杂电磁环境中信号稳定,实时反馈腔体压力变化,保障工艺压力闭环控制。

产品覆盖多档高压量程规格,最高可达数千 PSIA,用户可依据设备工况选型。广泛应用于高压半导体预处理腔体、高压气相工艺、特种材料合成、高压测试台、工业高压反应装置等。配备标准化机械与电气接口,便于设备集成和原有测控系统升级改造。每台传感器出厂均经过全量程压力标定,在高压区间多点校验,确保测量准确度。

很多高压工艺对压力控制稳定性要求严苛,压力偏差会直接影响反应速率与成品良率。MKS 这款数千 PSIA 高压型 Baratron 压力传感器,依靠高强度膜片承压设计,兼顾高压承载能力与精密测量性能,克服普通真空传感器无法胜任高压工况的短板,持续稳定完成高压腔体压力监测,减少压力失控风险,为高压精密工艺提供可靠的压力传感方案。


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