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MKS美国-压力传感器-巴特拉芯体

【简介】MKS美国-压力传感器-巴特拉芯体
采用 Inconel 合金张紧膜片电容结构,内置高真空参考腔。测量与气体种类无关,迟滞低、重复性优,耐工艺腐蚀,是半导体压力测量经典传感核心。

产品型号:750D12PFE2GA
更新时间:2026-10-17
厂商性质:经销商
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产品介绍

MKS美国-压力传感器-巴特拉芯体

MKS美国-压力传感器-巴特拉芯体

MKS 巴特拉 Baratron 芯体是电容式绝对压力传感器的经典核心传感单元,凭借径向张拉 Inconel 镍基合金膜片结构,奠定了半导体精密压力测量,依靠力学测压原理实现气体无关的高精度压力采集,广泛用于等离子刻蚀、薄膜沉积等真空制程。

芯体内部由张拉合金膜片将腔体分隔为工艺侧与密封参考腔,参考腔出厂预抽至高真空,内置吸气剂长期维持基准真空,以此作为绝对压力零点。当工艺侧压力改变,膜片受压差作用产生微米级形变,膜片与内置固定电极构成可变电容,极板间隙变化转化为电容信号。配套信号调理电路采集电容变化,转换为线性压力输出,测量本质为力与面积的力学检测,读数不受气体分子量、组分影响,区别于皮拉尼等气体敏感型真空传感。

膜片采用径向张拉工艺,消除膜片松弛带来的迟滞误差,具备极低迟滞、高重复性与超高分辨率。全焊接 Inconel 镍基合金浸润面,无钎焊接缝,耐卤素、等离子体等腐蚀性工艺介质,抵御工艺副产物侵蚀。部分型号搭载恒温模块,维持芯体恒定工作温度,抑制环境温变引发的零点漂移,进一步提升长期稳定性。

出厂完成多点标定,建立压力修正曲线,补偿膜片微小非线性偏差,保障全量程测量精度。芯体结构紧凑,自带安全防护设计,即便膜片出现工况损伤,工艺介质也被限制在传感腔内部,提升设备与产线安全。传感信号经降噪放大处理,输出标准 0–10V 模拟信号,可对接压力控制器、PLC 与上位系统。

巴特拉芯体凭借气体无关测量、耐腐蚀、低迟滞、长期稳定的综合优势,成为半导体制造领域压力测控的主流选择。在精密镀膜、真空热处理、科研真空设备中,该芯体持续提供可溯源、高重复性的压力数据,保障真空工艺的一致性与产品良率,是精密真空压力测量领域的标志性传感方案。(全文 597 字)


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