【简介】MKS美国-压力传感器-双层安全壁
内置双重屏障防护。突发超压时限制膜片形变，若主膜片破损，可锁住腐蚀性介质防止扩散，保护产线安全，适配半导体等离子工艺。

MKS美国-压力传感器-双层安全壁

MKS美国-压力传感器-双层安全壁

MKS Baratron 巴特拉压力传感器配备双层安全壁结构，构建两道独立金属屏障，兼顾测量性能与产线安全，专门应对半导体真空系统突发超压、膜片破损等工况，是腐蚀性等离子工艺的重要安全设计。

第一层为工艺侧 Inconel 张拉传感膜片，承担压力检测任务，将压差转化为电容信号，完成压力采集；第二层作为后备安全屏障，与主膜片形成双层防护。当系统出现异常超压冲击，双层安全壁可限制主膜片最大形变量，避免膜片发生性塑性变形，保护传感芯体零点基准，防止传感器计量性能失效。

在工况下，若主传感膜片意外破损，第二层安全壁能够锁住腐蚀性工艺介质，限制介质向传感器内部与产线其他区域扩散，阻止有害气体、等离子副产物外泄，降低设备损坏、人员安全风险。双层安全壁采用全焊接金属结构，无有机密封件，浸润面耐腐蚀，不引入额外放气污染源，维持真空腔体洁净度。

该结构不破坏原有 Baratron 核心性能，膜片依旧保持低迟滞、高分辨率、优异重复性，力学电容测压具备气体无关特性。恒温版本搭配闭环温控，稳定芯体温度，抑制温漂；常温款依托合金材料稳定性配合数字温度补偿。传感器出厂完成多点读数式标定，保障宽量程内测量准确度。输出 0–10V 标准模拟信号，对接压力控制器与 PLC，实时监测压力，触发超压联锁保护。

半导体刻蚀、CVD 沉积工艺中，误操作或阀门故障可能带来突发压力冲击，腐蚀性工艺气体一旦泄漏会带来严重安全隐患。MKS 双层安全壁在正常工况不影响高精度测量，异常工况提供被动安全防护，既能抵御瞬时压力冲击，又能在膜片破损时锁止介质，保障设备与产线安全。广泛应用于半导体、光学镀膜、科研真空等高风险腐蚀性真空测控场景，实现高精度计量与安全防护一体化。