MKS美国-流量控制器-宽动态测量区间 可在极低流量至满量程区间维持高精度测控，单台覆盖多档流量工况。支持多种工艺气体，适配半导体、镀膜工艺多变的供气调节需求

MKS美国-流量控制器-0.1满量程分辨率 拥有 0.1 满量程分辨率，流量细微变化均可精准捕捉。内置高速闭环调控，信号采集细腻，适配微量气体配比，多用于半导体、镀膜等高精细工艺供气

MKS美国-流量控制器-±1设定值控制精度 具备 ±1 设定值控制精度，流量调控稳定可靠，抗压力温度扰动。支持多种工艺气体，多通讯可选，广泛用于半导体、真空镀膜等精密工艺供气控制

MKS美国-流量控制器-±0.8 设定点高精度 实现 ±0.8 设定点控制精度，流量调控误差极小。具备优秀重复性与稳定性，支持多工艺气体，适配半导体、镀膜等对气体配比严苛的制造供气场景

MKS美国-流量控制器-MEMS 微传感芯片 芯片体积小巧，响应迅速，具备优异抗振与温漂补偿能力。可精准测控微小气体质量流量，洁净流道设计，适配半导体、镀膜等精密工艺供气。（59

MKS美国-流量控制器-热式传感技术 依托热传感原理直接测量气体质量流量，不受压力波动干扰。控制精度高、响应快，支持多通讯协议，金属密封可选，广泛用于半导体、真空镀膜等精密供气场景。