MKS美国-真空压力传感器-迟滞值很小 采用 Baratron 电容薄膜技术，迟滞值很小，升降压循环下读数偏差极低，膜片形变可逆，保障测量一致性，适用于半导体、真空镀膜精密真空监测

MKS美国-真空压力传感器-分辨率高 采用 Baratron 电容薄膜技术，分辨率高，可捕捉微小真空压力变化，信号灵敏，测量精准稳定，适用于半导体、真空镀膜等微压力精密监测场景

MKS美国-真空压力传感器-真空密封性佳 采用 Baratron 电容薄膜技术，全焊接一体化结构，真空密封性佳，漏率极低，杜绝漏气干扰测量，适配半导体、真空镀膜等高真空精密工艺监测

MKS美国-真空压力传感器-输出线性好 采用 Baratron 电容薄膜技术，输出线性优异，全量程压力与信号成正比，线性误差小，适配真空闭环控制，多用于半导体、真空镀膜等精密工艺监测

MKS美国-真空压力传感器-膜片高强度 采用 Baratron 电容薄膜技术，膜片选用高强度 Inconel 镍基合金，抗蠕变抗疲劳，形变可逆，耐受压力循环冲击，保障长期精准测量，适配半导体真空工艺。

MKS美国-真空压力传感器-耐介质腐蚀 采用 Baratron 电容薄膜技术，湿面耐介质腐蚀，全焊接结构，可适配多种腐蚀性工艺气体，测量稳定，常用于半导体、等离子等严苛真空工艺监测