MKS美国-真空压力传感器-耐高温工况 采用 Baratron 电容薄膜技术，可适配耐高温工况，可选恒温加热设计，抑制工艺副产物凝结，高温环境下测量稳定，适配半导体高温真空工艺监测。

MKS美国-真空压力传感器-抗振动优良 采用 Baratron 电容薄膜技术，结构稳固抗振动优良，设备震动工况下读数稳定，不易零点漂移，适合真空泵、镀膜设备等存在振动的真空工艺监测。

MKS美国-真空压力传感器-量程覆盖广 采用 Baratron 电容薄膜技术，量程覆盖广，多档位可选，可适配从粗真空至高真空区间，测量稳定精准，广泛用于半导体、真空镀膜各类真空工艺监测

MKS美国-真空压力传感器-模拟信号输出 采用 Baratron 电容薄膜技术，支持标准模拟信号输出，信号稳定噪声低，可直接接入工控采集系统，方便真空压力实时监测，适配半导体、真空镀膜工艺

MKS美国-真空压力传感器-安装多适配 采用 Baratron 电容薄膜技术，安装适配性强，配备多种标准真空接口，安装方式灵活，便于集成各类真空腔体，广泛用于半导体、真空镀膜工艺监测

MKS美国-真空压力传感器-全焊接结构 采用 Baratron 电容薄膜技术，全焊接一体化结构，无粘接缝隙，漏率低，抗腐蚀，密封可靠，适用于半导体、真空镀膜等高精密真空工艺监测。