【简介】MKS美国-真空压力传感器-量程覆盖广
采用 Baratron 电容薄膜技术，量程覆盖广，多档位可选，可适配从粗真空至高真空区间，测量稳定精准，广泛用于半导体、真空镀膜各类真空工艺监测

MKS美国-真空压力传感器-量程覆盖广

MKS美国-真空压力传感器-量程覆盖广

美国 MKS 真空压力传感器依托经典 Baratron 电容薄膜传感技术，量程覆盖广是其核心优势，拥有丰富规格型号，可覆盖从高真空、低真空直至接近大气压的多档压力区间，广泛应用于半导体刻蚀、薄膜沉积、真空镀膜、等离子工艺与科研真空测试等各类真空场景。

MKS 针对不同工艺压力需求，设计多档标准化量程产品，可实现微小低压到较高压力的测量覆盖。在同一套真空系统中，粗抽、预抽、工艺制程等不同阶段压力差异巨大，用户可按需选型匹配传感器，无需搭配多种不同原理真空计，简化真空系统设计。每一档量程出厂均经过独立多点校准，在额定量程内保持高精度、良好线性度与测量重复性，保证全量程区间数据可靠。

普通真空传感器量程档位较少，适用压力区间狭窄，一旦工况压力偏离设计量程，测量精度会快速下降，严重时还会造成传感器损坏。MKS Baratron 传感器丰富的量程选型，可灵活匹配多样化工艺需求，无论是高真空精密制程，还是粗真空抽气监测，都能找到适配型号。该传感器属于力学式测压，具备气体无依赖特性，测量结果不受气体组分影响，无需气体系数修正。

传感器核心采用 Inconel 镍基合金膜片，强度高、抗蠕变，迟滞小、分辨率高，耐受反复压力循环与短时过压冲击。采用全焊接一体化结构，真空密封性好，湿面耐介质腐蚀，可适配卤素等腐蚀性工艺气体；部分型号内置恒温模块，降低温度漂移带来的测量误差。产品支持标准模拟信号输出，配备 KF、CF 等多种真空法兰，安装适配性强，便于集成到各类真空设备。

半导体与真空镀膜设备在生产流程中压力跨度大，不同工序对监测量程要求各不相同。MKS 真空压力传感器凭借宽广量程选择空间，方便工程师选型设计，减少配套设备数量，降低系统集成成本。依托成熟 Baratron 传感技术、多量程产品矩阵与稳定可靠的机械结构，该传感器成为各类跨度压力真空系统压力监测的优选器件。