【简介】Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-控流精准
控流精准、响应迅速，金属密封流路，长期稳定性好，适配多种工艺气体，广泛用于半导体刻蚀、薄膜沉积等精密制程。

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-控流精准

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-控流精准

Brooks 布鲁克斯质量流量控制器（MFC）凭借高精度传感与闭环控制算法，实现稳定精准的气体质量流量调控，响应迅速、重复性优异，是半导体气体输送系统的核心精密仪表，适配刻蚀、薄膜沉积、MOCVD 等严苛制程。

在半导体晶圆制造工艺中，工艺气体配比直接决定薄膜组分与刻蚀效果，微小流量偏差就会造成晶圆批次不良。普通流量控制器易受进出口压力波动、气体温度变化干扰，出现流量漂移、超调、响应滞后等问题，影响工艺窗口稳定性。Brooks MFC 采用成熟热式传感技术，部分系列搭载压力补偿设计，大幅降低压力瞬态波动带来的流量扰动，保障设定流量持续稳定输出。

产品提供金属密封与弹性体密封两种流路方案，金属密封版本采用电解抛光流道，无橡胶件析出，适配超高纯度、腐蚀性特种工艺气体。内置 MultiFlo™多气体功能，单台控制器可切换多种气体与量程，无需拆件重新校准，提升设备设计灵活性。传感器零点稳定性优异，长期运行漂移小，有效减少现场定期校准频次。通讯接口丰富，支持模拟信号、RS485、EtherCAT、DeviceNet 等多种协议，可快速接入各类半导体设备控制系统。阀门关断性能优秀，泄漏量极低，减少待机状态下残余气体干扰，降低首片晶圆效应。

产品线覆盖宽量程区间，从小 sccm 微量控制到大 slpm 大流量规格均可选型，还可提供高温版本，适配可凝前驱体蒸汽输送场景。相比普通 MFC，布鲁克斯产品抗干扰能力更强，在复杂真空气路环境下，依然保持出色控流精度与快速调节响应。

该系列 MFC 广泛用于半导体刻蚀、CVD、ALD、MOCVD，同时覆盖氢能、分析仪器、生物发酵等流体控制场景。稳定精准的流量输出保障气体配比一致性，减少产品不良，降低设备运维成本，是精密工艺气体流量控制的优选方案