【简介】Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-响应迅速
响应迅速，流量稳定时间短，超调量小，可快速跟随设定值变化，金属密封流路，适配脉冲供气，广泛用于半导体刻蚀、CVD 精密工艺

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-响应迅速

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-响应迅速

Brooks 布鲁克斯质量流量控制器（MFC）具备响应迅速的控制特性，流量调节时延短、超调量低，可快速跟随工艺设定值变化，非常适合脉冲式供气、工艺步骤快速切换的场景，是半导体精密气体输送系统的核心测控部件。

在半导体刻蚀、ALD、CVD 等制程中，设备会频繁切换气体通路与流量设定。普通 MFC 响应迟缓，流量到达目标值耗时久，容易出现流量超冲、震荡现象，会造成薄膜厚度不均、刻蚀形貌异常，直接带来晶圆批次不良。尤其 ALD 原子层沉积工艺，对脉冲气体的启停时序要求严苛，对 MFC 的响应速度与控制稳定性提要求。Brooks MFC 通过优化热式传感结构与新一代闭环控制算法，缩短流量建立时间，抑制流量超调，快速稳定至设定流量，精准匹配工艺时序。

产品可选金属密封流路，流道电解抛光处理，析出物极低，适配高纯气体与腐蚀性工艺介质。内置 MultiFlo™多气体功能，单台 MFC 支持多种气体及量程切换，无需拆机重新标定，提升设备集成灵活性。传感器零点漂移小，长期运行稳定性佳，减少现场校准维护频次。通讯接口丰富，兼容模拟信号、RS485、EtherCAT、DeviceNet 等主流协议，便于接入各类半导体设备主控系统。阀门关断性能优异，低泄漏设计，避免待机残余气体干扰工艺。

该系列覆盖宽广流量范围，微量 sccm 到大流量 slpm 规格齐全，部分型号支持高温版本，应对可凝前驱体蒸汽输送工况。在压力波动、温度变化的复杂气路环境下，控制器依然可以维持快速响应能力，不会因工况扰动出现调节迟缓。

凭借快速响应、低超调的优势，Brooks 布鲁克斯 MFC 大量应用于 ALD、刻蚀、CVD、MOCVD 等半导体工艺，同时服务氢能、分析仪器等流体控制领域。精准及时的气体流量调节保障工艺时序稳定，降低产品不良率，减少调试耗时，是脉冲供气与多步骤快速切换工艺的理想流量控制方案。