【简介】Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-重复度高
重复度高，多次启停流量一致性好，批次间波动小，搭载精密传感补偿，保障气体配比稳定，适用于半导体刻蚀、CVD、ALD 精密工艺

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-重复度高

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-重复度高

Brooks 布鲁克斯质量流量控制器（MFC）拥有出色的流量重复性，多次启停、循环工艺之间流量输出一致性高，批次波动极小，保证每一轮工艺气体配比高度统一，是半导体薄膜沉积、刻蚀、ALD 等精密制程的核心流体控制仪表。

半导体制造对工艺重复性要求严苛，同一配方多次循环运行时，如果 MFC 流量重复性差，每次供气流量不一致，会造成薄膜厚度、组分不均匀，刻蚀形貌出现偏差，直接带来晶圆批次不良。普通 MFC 在反复启停、脉冲供气工况下，流量输出容易出现离散偏差，工艺一致性难以保障，增加产品报废风险。Brooks MFC 通过优化热式传感结构与闭环控制算法，降低每次供气的流量离散误差，保障循环工艺的可复现性。

产品采用高精度传感芯体，搭配温度压力动态补偿机制，削弱进出口压力波动、环境温度变化带来的干扰，保证多次运行下流量输出稳定一致。流路可选电解抛光金属密封结构，流道洁净度高，杂质析出少，减少污染物附着传感器造成的性能偏移，长期使用依然维持高重复度。内置 MultiFlo™多气体功能，切换不同工艺气体后，依旧保持优秀的流量重复性，无需反复拆机标定。

支持模拟、RS485、EtherCAT 等多种通讯协议，可快速接入半导体设备控制系统，适配自动化连续生产。阀门关断性能优异，低泄漏设计，避免待机残余气体干扰下一轮工艺，保障每次供气起点一致。产品量程覆盖广，从微量 sccm 到大流量 slpm 规格齐全，可满足不同工艺的流量选型需求。

稳定优异的重复性能，让 Brooks 布鲁克斯 MFC 有效降低批次差异，稳定工艺窗口，减少晶圆不良率，降低产线调试与质检成本。广泛应用于 ALD、CVD、刻蚀、MOCVD 等半导体工艺，同时适配氢能、分析仪器等流体控制场景，是对工艺一致性有高要求的精密气体流量控制方案。