【简介】Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-全金属封
全金属密封流路，无橡胶析出，耐腐蚀耐高温，流道电解抛光，洁净度高，适配超高纯工艺气体，多用于半导体 MOCVD、ALD 等制程

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-全金属封

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-全金属封

Brooks 布鲁克斯质量量控制器（MFC）可选全金属密封流路，无橡胶密封件析出风险，流道经电解抛光处理，内壁光洁度高，耐高温、耐腐蚀，适配超高纯与强腐蚀性工艺气体，是半导体薄膜制程的核心精密仪表。

在 MOCVD、ALD、CVD 等半导体工艺中，工艺气体纯度直接决定薄膜品质。普通橡胶密封 MFC，在高温、腐蚀性气体长期作用下，密封圈容易老化，释放微量有机物杂质，污染气路，造成薄膜缺陷，影响良率。部分可凝前驱体工况下，橡胶件还会被介质侵蚀，出现泄漏、失效问题，无法满足超高纯制程要求。Brooks 全金属密封 MFC 从流路结构上规避有机析出风险。

产品采用金属对金属密封结构，摒弃橡胶、PTFE 等高分子密封材料，流道内壁电解抛光，表面粗糙度低，气体吸附少，不易吸附残留前驱体与反应副产物，减少颗粒与污染物产生。流路材质选用适配高纯工艺的特种合金，耐受卤素、腐蚀性气体，可搭配高温工况，抵御可凝前驱体介质侵蚀。

设备搭载 MultiFlo™多气体与量程可编程功能，单台仪表可切换多种气体，软件修改量程，无需拆机标定。传感单元控流精度高、响应迅速，流量重复性与零点稳定性优异，即便长期在高纯腐蚀环境连续运行，流量控制性能依旧稳定。支持模拟、RS485、EtherCAT 等多种通讯协议，便于集成到自动化设备控制系统。阀座低泄漏设计，关断后残余气体极少，避免气体交叉污染。

产品线覆盖微量 sccm 到大流量 slpm，全金属密封版本可按需选配，适配不同流量需求。广泛用于半导体 MOCVD、ALD、刻蚀、薄膜沉积，同时适用于氢能、特种气体分析仪器等高纯流体控制领域。

全金属密封流路有效杜绝有机析出，提升气路洁净度，降低颗粒污染风险，延长仪表使用寿命，减少设备维护频次，保障晶圆生产良率，是超高纯、腐蚀性工艺气体流量控制的优选方案。