【简介】Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-哈氏合金
哈氏合金流路，强耐腐蚀性，可耐受卤素等强反应性气体，搭配全金属密封，低析出，适配半导体 MOCVD、刻蚀严苛工艺

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-哈氏合金

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-哈氏合金

Brooks 布鲁克斯质量流量控制器（MFC）可选哈氏合金流路，拥有优异的耐化学腐蚀能力，可抵御卤素、酸性等强反应性工艺气体侵蚀，搭配全金属密封结构，析出极低，适配半导体 MOCVD、刻蚀等高腐蚀精密制程。

半导体制程中，大量使用含氯、氟等卤素类强腐蚀气体，这类介质对仪表流路材质要求。普通不锈钢流路长期接触腐蚀气体，内壁易发生点蚀，产生颗粒杂质，造成传感器漂移、阀门泄漏，引发晶圆污染与工艺失效，仪表更换频率高。哈氏合金版本 MFC 专门针对这类恶劣工况进行材质升级，解决普通材质不耐腐蚀的痛点。

哈氏合金具备出色抗点蚀、抗晶间腐蚀性能，在卤素、卤化物蒸汽环境下化学稳定性强，流道经过电解抛光处理，内壁光滑，降低气体吸附与反应副产物沉积，减少污染物堆积。搭配全金属密封结构，无橡胶类有机密封件，不会被腐蚀介质溶胀分解，规避有机物析出污染气路，保障超高纯气路洁净度。传感器与阀座也采用适配哈氏合金体系的防腐材质，整机耐腐蚀能力保持一致。

仪表搭载 MultiFlo™多气体技术，支持量程可编程，切换多种腐蚀气体无需拆机重标定。同时保留布鲁克斯 MFC 一贯的控流精度、快速响应、高重复性与稳定零点，材质升级不会牺牲流量控制性能。支持模拟、RS485、EtherCAT 等多种通讯协议，可快速接入自动化设备控制系统。阀门低泄漏设计，避免腐蚀性气体渗漏，保护后端设备安全。

产品线覆盖微量 sccm 到大流量 slpm 区间，哈氏合金流路型号可按需选型，部分规格支持高温版本，适配可凝前驱体输送场景。除半导体刻蚀、MOCVD、ALD 之外，也适用于特种化工、实验室分析仪器等强腐蚀流体控制领域。

哈氏合金流路大幅提升仪表抗腐蚀能力，延缓流道老化，减少颗粒污染，延长仪表使用寿命，降低产线备件更换与停机维护成本，稳定工艺窗口，提升晶圆良率，是强腐蚀性工艺气体流量控制的优选方案。