【简介】Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-超低泄漏
具备超低泄漏特性，阀座密封性能优异，待机残余气体少，防止气体串扰，保障气路纯度，适配半导体 ALD、MOCVD 等高精密制程。

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-超低泄漏

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-超低泄漏

Brooks 布鲁克斯质量流量控制器（MFC）拥有超低泄漏特性，精密阀座密封结构关断性能优异，阀门关闭后残余气体释放量极低，避免不同气体之间相互串扰，保障气路纯度，适配半导体 ALD、MOCVD 等高精密制程。

在 ALD、MOCVD、刻蚀等半导体工艺中，气体配比和时序控制十分严苛。阀门关闭时如果泄漏量大，待机状态下的残余气体会持续混入反应腔，干扰薄膜沉积与刻蚀反应，造成首片效应、薄膜组分偏移、厚度不均，直接引发晶圆批次不良。普通 MFC 阀门密封性能有限，瞬态压力变化时泄漏量会明显上升，难以满足脉冲供气工艺的严格要求。Brooks MFC 通过优化阀芯与阀座设计，实现关断状态下极低泄漏水平。

产品采用高精度阀芯与阀座配对加工，配合金属密封方案，消除高分子密封件老化带来的泄漏隐患。流路可选用电解抛光哈氏合金或不锈钢材质，内壁光洁，减少杂质沉积，避免颗粒卡在密封面造成密封失效。即便在多次阀门循环启停、压力波动工况下，密封面依旧保持良好贴合，长期运行泄漏指标稳定。

设备搭载 MultiFlo™多气体功能，支持量程可编程，切换各类高纯、腐蚀性工艺气体时，超低泄漏性能不受影响。同时保留布鲁克斯 MFC 控流精准、响应迅速、零点稳定、重复度高等核心性能。支持模拟、RS485、EtherCAT 等多种通讯协议，可无缝接入自动化设备控制系统。产品线覆盖微量 sccm 到大流量 slpm，超低泄漏设计在全量程型号均可实现。

超低泄漏特性有效抑制待机残余气体干扰，减少首片晶圆异常，稳定工艺窗口，降低产品报废率。广泛应用于 ALD、CVD、刻蚀、MOCVD 等半导体工艺，同时适配特种气体、氢能、精密分析仪器等高洁净流体控制场景。优异的关断密封能力，减少气体交叉污染，降低设备调试难度，减少维护频次，是脉冲供气、多气体切换精密工艺的理想流量控制仪表。