【简介】Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-洁净流道
洁净流道，电解抛光内壁，低吸附低析出，可选哈氏合金全金属密封，减少颗粒污染，适配 ALD、MOCVD 半导体高纯制程

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-洁净流道

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-洁净流道

Brooks 布鲁克斯质量流量控制器（MFC）采用超高洁净流道设计，流道内壁电解抛光处理，低吸附、低析出，可选哈氏合金搭配全金属密封，有效减少颗粒生成与污染物释放，适配 ALD、MOCVD 半导体高纯精密制程。

半导体优良制程对气路洁净度有着严苛标准，微小颗粒、有机物析出都会直接附着在晶圆表面，造成器件缺陷，严重影响良率。普通流道内壁粗糙，易吸附反应前驱体与气体副产物，长时间运行后会堆积杂质，逐步释放颗粒；有机密封材料在工艺介质作用下还会析出有机物，污染高纯气路。布鲁克斯洁净流道 MFC，从材质与表面处理入手，解决气路污染难题。

流道内壁采用高标准电解抛光工艺，表面粗糙度极低，大幅降低气体、反应副产物的吸附附着，减少沉积物堆积。流路基材可选不锈钢或哈氏合金，配合全金属密封结构，不含橡胶类有机密封件，杜绝介质腐蚀造成的有机材料分解、析出。传感器、阀座等核心部件同步采用高洁净适配材质，整机保持一致的低污染特性。

仪表搭载 MultiFlo™多气体兼容与量程可编程技术，切换各类高纯、腐蚀性气体时，洁净流道性能不受影响。同时保留布鲁克斯 MFC 控流精准、响应快速、零点稳定、高重复性、超低泄漏等全部核心优势。支持模拟、RS485、EtherCAT 等通讯方式，可接入自动化设备控制系统。产品线覆盖微量 sccm 到大流量 slpm，洁净流道型号可按需选配高温、防腐等选项。

除 ALD、MOCVD、CVD、刻蚀等半导体工艺外，该产品同样适用于特种气体、真空镀膜、精密分析仪器等高洁净流体测控场景。高洁净流道设计，降低颗粒与有机物污染风险，减少腔体清洗频次，延长设备维护周期，稳定工艺窗口，提升晶圆良率，是高纯气体精密流量控制的可靠方案。