【简介】Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-镜面抛光
镜面抛光流道，内壁超低粗糙度，低吸附、低颗粒释放，搭配全金属密封，气路洁净，适配 ALD、MOCVD 半导体高纯工艺。

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-镜面抛光

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-镜面抛光

Brooks 布鲁克斯质量流量控制器（MFC）采用镜面抛光流道，内壁达到超低粗糙度，具备低吸附、低颗粒释放特性，搭配全金属密封结构，保障气路超高洁净度，适配 ALD、MOCVD 半导体高纯精密工艺。

半导体优良制程中，气路内壁表面状态直接决定颗粒与污染物水平。普通抛光流道表面存在微小凹坑，极易吸附金属有机前驱体、反应副产物，长期运行后杂质不断堆积脱落，形成颗粒污染，附着于晶圆表面造成器件缺陷，降低良率。镜面抛光工艺对 MFC 流道内壁做精细化处理，降低表面粗糙带来的吸附隐患。

流道基材可选不锈钢或哈氏合金，经过高精度镜面抛光加工，内壁光滑致密，大幅减少反应介质、副产物的附着与沉积，降低颗粒物生成概率。搭配全金属密封方案，无橡胶等有机密封件，不存在介质侵蚀导致的有机物析出，维持高纯气路洁净水平。阀座、传感器接触介质部位同步采用同等洁净标准，整机流路性能统一。

仪表搭载 MultiFlo™多气体兼容技术，支持量程可编程，在切换各类高纯、腐蚀性前驱体气体时，镜面抛光流道的低污染特性不受影响。同时保留布鲁克斯 MFC 控流精准、响应迅速、零点稳定、高重复性、超低泄漏等核心性能。支持模拟、RS485、EtherCAT 等多种通讯协议，方便接入自动化设备主控系统。产品线覆盖微量 sccm 到大流量 slpm，镜面抛光型号可按需选配高温、防腐等选项。

镜面抛光流道显著降低介质吸附与颗粒释放，减少腔体污染与首片效应，延长吹扫维护周期，降低停机检修成本。广泛应用于 ALD、MOCVD、CVD、刻蚀等半导体制程，也适用于真空镀膜、特种气体、实验室分析仪器等高洁净流体控制场景。光滑镜面流道有效守住高纯气路洁净底线，稳定工艺窗口，提升晶圆良率，是超高洁净工况下精密气体流量控制的优选方案。