【简介】MKS美国-电容压力计-气体成分无关测量
依托膜片形变检测原理，实现气体成分无关的真实压力测量。高精度、低迟滞，耐工艺腐蚀，0-10V 模拟输出，广泛用于半导体真空与精密制程压力监测。

MKS美国-电容压力计-气体成分无关测量

MKS美国-电容压力计-气体成分无关测量

MKS 作为*半导体与精密工艺测控领域的厂商，旗下 Baratron® 电容压力计是真空与压力测量领域产品，核心优势为气体成分无关测量，不受被测气体种类、组分变化影响，直接测量介质真实压力，区别于热传导式真空规，不存在气体修正系数带来的测量误差。

产品核心原理基于金属薄膜电容传感结构，被测介质压力作用于精密金属膜片，膜片发生微小形变，改变膜片与固定电极间电容值。电路将电容变化线性转换为标准模拟信号输出。该传感机制仅响应压力产生的力学形变，和气体分子量、粘度、热导率无关，无论氮气、氩气、氧气、特种工艺混合气，都可获得一致精准读数，大幅简化多气体切换工况下的现场标定工作。

Baratron® 电容压力计覆盖宽量程区间，从粗真空到超高真空区间均有对应型号，包含 626、627、722 等主流系列。传感器本体采用耐腐蚀金属材质，适配半导体刻蚀、沉积、镀膜等复杂工艺环境，可耐受部分腐蚀性工艺气体。产品具备优异的线性度、低迟滞与长期稳定性，温度漂移控制优秀，标配 0-10V、4-20mA 标准模拟输出，可直接对接 PLC、工控采集系统，实现压力实时监测与闭环控制。

设备支持多种安装接口，法兰与螺纹规格丰富，满足真空腔体、工艺管路集成需求。产品内置温度补偿模块，降低环境温度波动对测量精度的干扰。相比传统真空测量元件，无需根据气体种类更换修正参数，在频繁切换工艺气体的产线中优势突出，减少调试工作量，规避因气体组分变化引发的工艺异常。

广泛应用于半导体晶圆制造、光学镀膜、光伏电池制备、科研真空系统、特种材料沉积等领域。作为真空工艺的核心测控元件，MKS Baratron® 电容压力计凭借气体成分无关测量特性，持续保障真空工艺压力精度，稳定制程良率，是精密真空产线的主流压力测量方案。