【简介】MKS美国-电容压力计-稳定性优异
镍基合金全焊接膜片搭配恒温可选结构，温漂低、重复性好，长时间运行测量漂移小，保障精密工艺持续监测。

MKS美国-电容压力计-稳定性优异

MKS美国-电容压力计-稳定性优异

MKS Baratron 电容压力计拥有突出的长期测量稳定性，依托镍基合金全焊接膜片结构，可选恒温控温模块，有效降低温度漂移，重复性佳，长时间连续运行测量漂移极小，保障半导体、真空精密工艺持续稳定监测。

传感器核心膜片采用 Inconel 镍基合金全焊接密封工艺，无钎焊缝隙，抗疲劳、抗蠕变性能优异。在反复压力循环工况下，膜片弹性形变一致性高，升降压过程迟滞误差低，不会随长时间使用出现弹性衰减。内置密封参考腔结构稳定，零点长期保持稳定，减少频繁现场校准需求，降低设备停机维护频次。

针对环境温度波动带来的测量漂移问题，恒温版本将传感单元维持在恒定温度，消除环境温变引发的膜片形变与电容基准偏移，进一步抑制零点与量程漂移。同时恒温结构还可减少工艺副产物在膜片表面沉积，降低污染物附着造成的缓慢漂移，特别适合长时间不间断的连续制程监测。

真空精密工艺对压力重复性要求严苛，腔体压力的微小漂移会直接影响刻蚀速率、薄膜均匀度，造成产品批次良率波动。传统压力传感器随运行时间增加，零点漂移持续累积，需要频繁停机校准；MKS 电容压力计长期输出稳定，并且测量不受气体组分影响，切换工艺气体无需修正参数，保障工艺参数一致性。传感器具备可靠过压防护，短时压力冲击不会造成膜片变形，规避工艺异常对传感元件的不可逆损伤。

信号调理电路集成在传感器本体，抗干扰能力强，模拟、数字信号输出线性稳定，方便接入 PLC 实现工艺闭环控制。美国原厂出厂完成独立标定，附带溯源校准证书，单台产品性能一致性好。广泛用于半导体刻蚀、薄膜沉积、真空镀膜、科研真空平台、医药冻干等场景。依托 MKS 电容压力计优异的长期稳定性，减少制程参数波动，延长传感器有效使用周期，降低校准与备件成本，为真空工艺提供长期可靠的压力基准监测。