【简介】MKS美国-电容压力计-双层安全防护结构
可抵御瞬时超压冲击，防止膜片破损，隔离工艺介质，保护传感元件，保障真空测量安全稳定运行

MKS美国-电容压力计-双层安全防护结构

MKS美国-电容压力计-双层安全防护结构

MKS 美国 Baratron 电容压力计搭载双层安全防护结构，针对真空系统常见的瞬时超压、压力冲击等风险做专项防护设计，有效保护核心传感膜片，提升设备运行安全性，是半导体精密真空工艺稳定测控的重要保障。

真空管路在启停、气体切换、阀门误操作时，极易出现突发压力冲击与瞬时超压。普通压力传感器膜片一旦承受超出量程的压力，容易发生性塑性变形，直接造成传感器报废、工艺介质泄漏，严重时还会污染真空腔体。MKS 双层防护结构，在接液膜片后方增设一层防护屏障，形成两道独立的防护体系，分担压力冲击载荷，避免瞬间高压直接作用于传感膜片。

第一道为工艺侧接液膜片，采用 Inconel 镍基合金或可选 Incoloy 合金材质，感知压力变化并完成信号采集；第二道为安全防护层，作为后备屏障。当系统发生异常超压时，防护层可限制膜片最大形变幅度，防止膜片过度拉伸破损。即便第一道膜片出现意外破损，第二层结构依然可以阻隔工艺介质，避免腐蚀性气体侵入传感器内部电路，防止介质外泄污染腔体，将工艺事故风险降到。

双层防护结构并非牺牲传感性能换取安全，整体保持全焊接密封工艺，无垫片泄漏隐患，维持优异的气密性、低释气特性。传感器原有低迟滞、高分辨率、快速响应等测量性能不受影响，在正常工作压力区间，双层结构不会干扰膜片形变感知，压力信号依旧精准稳定。

该结构经过大量超压循环测试验证，可耐受多次突发压力冲击，防护性能稳定可靠。面对复杂多变的半导体制程工况，双层安全结构大幅降低传感器损坏概率，减少设备意外停机，规避介质泄漏带来的腔体污染与产品报废损失。

在刻蚀、薄膜沉积、真空镀膜等对设备安全性要求严苛的工艺场景，双层安全防护结构实现测量性能与安全冗余兼顾，既保证压力监测精准度，又构建可靠的故障缓冲防线，减少突发故障带来的损失，是 MKS Baratron 电容压力计在真空测控领域的一大安全设计亮点。