【简介】MKS美国-电容压力计-去离子水兼容
Inconel/Incoloy 合金接液面抗电化学腐蚀，低离子析出，可稳定监测压力，适配纯水相关真空工艺。

MKS美国-电容压力计-去离子水兼容

MKS美国-电容压力计-去离子水兼容

MKS 美国 Baratron 电容压力计具备优秀的去离子水兼容性能，依托 Inconel 镍基合金与可选 Incoloy 铁镍基合金接液材质，可稳定用于接触去离子水的真空工艺环境，有效抑制离子析出与电化学腐蚀，保障压力测量精度与腔体洁净度。

去离子水虽然离子含量低，但本身具备一定导电性，在真空、高低温交替环境下，接触普通金属材料时易引发电化学腐蚀。普通不锈钢在长期接触去离子水工况下，表面会发生缓慢腐蚀，析出金属离子，一方面污染工艺流体与真空腔体，影响产品良率；另一方面腐蚀会逐步破坏膜片力学特性，造成零点漂移、测量失真，严重时引发点蚀穿孔，带来泄漏风险。

Inconel 与 Incoloy 合金结构致密，钝化膜稳定性强，在去离子水环境下抗电化学腐蚀能力突出，接液表面不易发生腐蚀反应，金属离子析出量极低，不会对去离子水造成二次污染。即便在水汽凝结、干湿交替的工艺循环条件下，膜片力学性能依旧稳定，弹性回复特性保持一致，持续维持传感器低迟滞、高重复性的测量指标，压力信号长期稳定不漂移。

传感器采用全焊接一体化结构设计，摒弃橡胶、塑料等非金属密封垫片，避免垫片溶出物污染纯水介质。焊缝耐腐蚀能力与基材保持一致，不会出现焊缝优先腐蚀的现象。搭配双层安全防护结构、膜片破裂介质密闭设计以及 100% 出厂氦检，构建多重安全屏障，降低腐蚀渗漏风险。同时材料本身释气率低，满足高洁净工艺标准，不会释放杂质干扰工艺环境。

在正常工作区间，去离子水介质不会干扰膜片形变感知，传感器原有快速响应、超高分辨率等测量性能不受影响。良好的介质兼容性减少传感器腐蚀失效概率，降低备件更换与产线停机清理成本。

在半导体清洗工艺、真空水汽处理、纯水相关材料制备等场景中，MKS Baratron 电容压力计可长期稳定监测压力，严控离子污染风险，稳定工艺窗口，提升产品良率，是接触去离子水真空工况压力测量的可靠方案。