【简介】MKS美国-电容压力计-高爆破压力安全
高强度合金膜片搭配双层防护，提升爆破阈值，抑制介质外泄，保障真空系统运行安全

MKS美国-电容压力计-高爆破压力安全

MKS美国-电容压力计-高爆破压力安全

MKS 美国 Baratron 电容压力计具备高爆破压力安全特性，采用高强度耐蚀合金膜片搭配双层安全防护结构，大幅提升膜片爆破阈值，强化系统故障容错能力，在半导体各类高压风险真空工艺中筑牢安全底线。

真空系统常会出现阀门误操作、供气异常、管路堵塞等意外情况，带来远超正常工作范围的压力载荷。普通单层膜片压力传感器爆破压力余量较低，一旦压力超限，膜片极易发生爆裂，腐蚀性工艺介质会直接涌入真空腔体，造成晶圆报废、腔体污染，引发长时间停机清理，带来巨大经济损失。

该压力计核心接液膜片选用 Inconel 镍基合金，也可按需选配 Incoloy 铁镍基合金。合金材料本身抗拉强度高、韧性好，抗疲劳性能优异，膜片的极限爆破压力显著提升，能够承受更大的异常压力载荷，降低膜片在压力冲击下发生破裂的概率。双层防护结构作为第二道安全屏障，不仅可以限制膜片最大形变幅度，延缓膜片应力累积；就算工况下接液膜片发生破损，内置隔离屏障也能够锁止工艺介质，阻止介质扩散至腔体与传感器后端电路，将事故范围控制在传感器本体内部。

传感器本体采用全焊接一体化制造工艺，无非金属密封垫片，焊缝强度高，100% 出厂氦检确保密封可靠，不会出现焊缝先于膜片开裂的情况。整套安全设计属于被动防护机制，在正常工作区间，双层结构不会干涉膜片形变感知，传感器高分辨率、低迟滞、快速响应等测量性能不受影响，压力采集依旧精准稳定。

高爆破压力安全设计，为真空系统增加充足的安全冗余，有效降低超压引发的介质泄漏、腔体污染等重大风险，减少设备意外停机和产品报废损失。在半导体刻蚀、薄膜沉积等使用腐蚀性气体的工艺场景中，更高的爆破压力余量，让传感器可以从容应对不可预判的压力异常，兼顾高精度压力监测与系统安全防护，是高风险真空工况压力测量的可靠选型