【简介】MKS美国-电容压力计-过压无零点漂移
双层防护限制膜片形变，避免塑性变形，保障压力测量精度长期稳定可靠

MKS美国-电容压力计-过压无零点漂移

MKS美国-电容压力计-过压无零点漂移

MKS 美国 Baratron 电容压力计具备过压无零点漂移的优异特性，依托双层安全防护结构与高强度耐蚀合金膜片设计，在遭遇短时超压冲击后，可避免膜片产生塑性变形，维持零点稳定，保障压力测量精度持续可靠，适配压力波动频繁的半导体真空工艺。

普通电容压力传感器在承受超出额定范围的压力冲击时，传感膜片容易发生不可逆的塑性形变。膜片力学特性一旦改变，就会直接引发零点偏移，测量读数持续失真。出现这类问题后，传感器必须拆回重新校准，严重时只能直接报废，造成产线停机、备件更换与工艺恢复成本大幅增加。尤其在半导体刻蚀、薄膜沉积等工艺中，零点漂移会直接改变工艺判定基准，造成批量产品不良。

该款压力计的双层防护结构可以在压力超限瞬间，限制接液膜片的最大形变行程，防止膜片被拉伸至塑性变形区间。膜片基材选用 Inconel 镍基合金或可选 Incoloy 铁镍基合金，材料弹性极限高、抗疲劳性能强，短时超压卸除后，膜片能够回弹至原始形态，不会产生形变，零点位置保持不变，无需重新校准即可继续投入使用。

传感器采用全焊接一体化结构，整体刚性强，焊缝强度稳定，搭配 100% 出厂氦检，确保本体密封性能。整套防护属于被动安全冗余设计，正常工作压力区间内，防护结构不会接触介质、不干扰膜片形变感知，传感器高分辨率、低迟滞、快速响应、高重复性等全部测量性能不受影响。同时合金材质自带优异耐蚀能力，可耐受卤素、臭氧、水汽等各类工艺介质，避免介质侵蚀造成膜片力学性能衰减，从源头减少零点漂移诱因。

过压后零点稳定的特性大幅提升系统容错能力，减少因压力冲击导致的传感器失效与停机校准工作，降低运维成本。面对真空管路误操作、气体切换冲击等不可预判的短时超压工况，传感器仍可持续输出准确压力数据，稳定工艺窗口，保障晶圆生产良率，是动态波动真空环境高精度压力监测的优选产品。