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MKS美国-电容压力计-80℃恒温控制

【简介】MKS美国-电容压力计-80℃恒温控制
稳定维持传感器温度,有效抑制高露点介质冷凝,保护膜片,保障压力测量稳定,适配易凝性强的真空工艺

产品型号:51C13TCA2BA200
更新时间:2026-09-23
厂商性质:经销商
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产品介绍

MKS美国-电容压力计-80℃恒温控制

MKS美国-电容压力计-80℃恒温控制

MKS 美国 Baratron 电容压力计提供80℃恒温控制型号可选,将传感器接液端稳定维持在 80℃高温,针对高露点、强可凝性工艺介质,有效避免蒸汽、有机气体在膜片表面冷凝积液,保障压力测量精度长期稳定,适配严苛可凝介质真空制程。

在半导体真空工艺中,部分有机蒸汽、高浓度水汽介质露点较高,常规 45℃恒温方案不足以阻止介质凝结。一旦冷凝液附着在传感膜片表面,会改变膜片自重与力学特性,引发零点漂移、读数跳变;长期积液还会加速膜片腐蚀,甚至造成管路堵塞,破坏真空环境,导致工艺参数失控,增加产品不良风险。80℃恒温版本通过更高的恒温设定,让传感器温度远高于介质露点,从源头杜绝介质冷凝附着膜片。

该款恒温压力计膜片选用 Inconel 镍基合金或可选 Incoloy 铁镍基合金,耐高温与耐腐蚀性能优异,可同时耐受高温环境与卤素、臭氧、水汽等强腐蚀介质。传感器采用全焊接一体化结构,无易受热老化的非金属垫片,焊缝强度稳定可靠,搭配双层安全防护结构与 100% 出厂氦检,保障高温工况下结构刚性与密封性能。80℃恒温系统独立运行,温控过程不会干扰膜片形变感知,传感器高分辨率、低迟滞、快速响应、高重复性等核心测量指标不受温度影响。

相比 45℃恒温型号,80℃版本应对高露点介质能力更强,适用介质范围更广。同时传感器保留原有高过压耐受、抗压力冲击、过压不易零点漂移等安全特性,高温工作状态下依旧具备充足安全冗余。

80℃恒温控制方案大幅降低冷凝带来的传感器失效、频繁校准与管路清理成本。在有机前驱体沉积、高水汽等离子工艺等高露点真空场景中,80℃恒温 Baratron 电容压力计可持续输出精准压力数据,稳定工艺窗口,减少批量不良产生,是高露点可凝介质真空压力监测的可靠解决方案。


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