【简介】MKS美国-电容压力计-100℃恒温控制
高温恒温抑制高露点介质冷凝，保护膜片不受凝液影响，保障压力测量稳定，适配强可凝介质真空工艺。

MKS美国-电容压力计-100℃恒温控制

MKS美国-电容压力计-100℃恒温控制

MKS 美国 Baratron 电容压力计提供100℃恒温控制型号可选，将传感器接液区域稳定维持在 100℃，针对高露点、强可凝性工艺介质防止有机蒸汽、高浓度水汽在膜片表面冷凝积液，保障压力测量精度持续稳定，适配严苛的可凝介质真空制程。

在半导体真空生产过程中，部分有机前驱体、饱和水汽介质露点很高，45℃、80℃恒温型号不足以抑制介质凝结。一旦冷凝液附着在传感膜片表面，会改变膜片自重与力学特性，引发零点漂移、读数跳变；长期积液还会加速膜片腐蚀，甚至造成管路堵塞，破坏真空环境，导致工艺参数失控，增加产品不良风险。100℃恒温版本依靠更高的恒定温度，使传感器温度显著高于介质露点，从根源杜绝介质冷凝附着膜片。

该款恒温压力计膜片选用 Inconel 镍基合金或可选 Incoloy 铁镍基合金，耐高温与耐腐蚀性能优异，可同时耐受 100℃持续工作温度以及卤素、臭氧、水汽等强腐蚀介质。传感器采用全焊接一体化结构，无易受热老化的非金属垫片，焊缝强度稳定可靠，搭配双层安全防护结构与 100% 出厂氦检，保障高温工况下结构刚性与密封性能。100℃恒温系统独立运行，温控过程不会干扰膜片形变感知，传感器高分辨率、低迟滞、快速响应、高重复性等核心测量指标不受高温影响。

对比 45℃、80℃恒温型号，100℃版本应对超高露点介质能力更强，适用介质范围更广。传感器保留原有高过压耐受、抗压力冲击、过压不易零点漂移等安全特性，高温工作状态下依旧具备充足安全冗余。

100℃恒温控制方案大幅降低冷凝带来的传感器失效、频繁校准与管路清理成本。在有机前驱体沉积、高水汽等离子工艺等高露点真空场景中，100℃恒温 Baratron 电容压力计可持续输出精准压力数据，稳定工艺窗口，减少批量不良产生，是超高露点可凝介质真空压力监测的可靠解决方案。