【简介】Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-多气兼容
支持多气兼容，依托 MultiFlo 功能，单台可切换多种工艺气体与量程，无需拆机重校准，适配半导体多种气体配比工艺。

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-多气兼容

Brooks布鲁克斯-质量流量控制器-多气兼容

Brooks 布鲁克斯质量流量控制器（MFC）搭载 MultiFlo™多气体功能，具备优秀的多气兼容能力，单台仪表无需拆机，即可切换多种工艺气体与不同量程，减少硬件更换与重复标定，为半导体设备集成带来极大便利。

在半导体刻蚀、CVD、ALD 等制程中，一套设备往往需要通入多种工艺气体，包括惰性载气、反应气体、腐蚀性特种气体。传统 MFC 多为单气体标定，更换气体后必须拆机重新校准，不仅耽误设备调试进度，还会增加备件数量，提升设备制造成本。若产线工艺配方升级，还需要更换整台流量控制器，灵活性不足。Brooks MFC 的多气体功能很好地解决了这一痛点。

MultiFlo™内置多种气体标定参数数据库，操作人员只需在控制系统中选择对应气体类型，控制器自动调用补偿系数，完成流量换算，无需拆解管路、返厂标定。产品流路可选金属密封电解抛光结构，流道洁净度高，耐受多种高纯、腐蚀工艺气体，减少介质附着污染传感元件，保证切换气体后流量精度稳定。

设备本身保持优异的控流精度、快速响应与高重复性，切换气体后零点与流量性能不会明显衰减。支持模拟、RS485、EtherCAT 等多种通讯协议，可直接接入半导体自动化设备主控系统。阀门低泄漏设计，气体切换过程中，避免不同气体之间相互串气干扰，保障工艺纯度。产品线量程覆盖宽广，从微量 sccm 到大流量 slpm，多气兼容特性在全量程均可生效。

多气兼容特性大幅降低设备厂商的备件库存，减少设备硬件型号种类，缩短新机调试和工艺配方迭代周期。一台 MFC 可适配多种工艺配方，便于设备平台化设计。广泛用于半导体薄膜沉积、刻蚀、MOCVD，同时适配氢能、分析仪器等领域。凭借的多气体适配能力，Brooks 布鲁克斯 MFC 有效提升设备通用性，降低运维成本，是多气体配比精密工艺的优选方案。