【简介】MKS美国-电容压力计-气体无关真实压力测量
实现气体无关真实压力测量，不受气体组分影响。高精度线性模拟输出，适配半导体、真空工艺，用于真空与工艺压力精准监测。

MKS美国-电容压力计-气体无关真实压力测量

MKS美国-电容压力计-气体无关真实压力测量

MKS 美国电容压力计依托电容式膜片传感技术，实现气体无关的真实压力测量，测量结果不受气体组分、分子量变化影响，广泛应用于半导体制造、真空镀膜、等离子工艺、精密检漏等真空与气体工艺场景，持续为工艺系统提供精准压力信号，保障真空制程稳定可控。

传统真空压力传感器读数易受气体种类干扰，不同气体分子量差异会造成测量偏差，在混合气体、工艺气体切换场景下，必须额外做气体补偿。MKS 电容压力计核心传感单元为金属隔离膜片与固定电极构成的电容腔，压力变化推动薄膜产生微小形变，膜片与电极之间电容值随之改变，电路将电容变化转换为压力信号。该原理直接测量气体产生的力学压力，只感知压力带来的膜片形变，与气体分子质量、气体类型无关，无需针对不同气体进行修正，直接输出真实绝对压力。

传感器腔体经过精密加工，膜片材质稳定性强，形变具备优异线性度与重复性，长期使用漂移小。传感单元全金属密封结构，抗污染能力强，可适配洁净工艺气体，部分型号兼容轻度腐蚀性工艺介质。产品具备高分辨率输出，模拟信号稳定，响应速度快，可实时捕捉真空腔体内压力波动，为工艺闭环控制提供可靠数据。

产品覆盖宽量程真空区间，从粗真空到高真空均有对应型号可选，支持多种标准模拟信号输出，可直接接入工控采集卡、PLC、真空控制器，系统集成便捷。设备出厂完成多点校准，保证全量程测量精度，适合连续不间断的工业制程监测。虽然拥有气体无关测量优势，但使用时仍需避免颗粒污染物沉积在膜片表面，防止膜片形变异常影响测量精度。

该产品以压力监测为核心，用于真空工艺的压力监控与闭环控制。气体无关真实压力测量是其核心优势，省去复杂气体换算补偿，简化工艺调试流程。凭借电容膜片传感、气体无关测量特性、高稳定度与优异线性，MKS 美国电容压力计，是半导体、真空设备、精密气体工艺中压力监测与制程控制的核心仪器。