【简介】MKS美国-电容压力计-耐臭氧介质能力
镍合金全焊接接液腔体可抵御臭氧氧化侵蚀，气体无关电容传感，适配半导体臭氧工艺真空压力监测。

MKS美国-电容压力计-耐臭氧介质能力

MKS美国-电容压力计-耐臭氧介质能力

MKS 美国电容压力计拥有优异的耐臭氧介质能力，采用镍合金全焊接一体化接液腔体，可抵御臭氧强氧化侵蚀，适用于半导体臭氧清洗、薄膜氧化处理、等离子工艺等含臭氧的真空工况，在氧化性介质环境下稳定采集压力信号，保障真空系统压力监测长期可靠运行。

臭氧具有的氧化特性，在半导体工艺中常用于腔体清洁与薄膜制备。普通传感器采用不锈钢或含橡胶密封件结构，臭氧会持续氧化腐蚀密封件，造成密封老化开裂、金属表面氧化剥蚀，进而引发真空泄漏、膜片受损，不仅压力读数漂移失真，脱落的氧化碎屑还会污染工艺腔，降低晶圆良率，增加频繁更换传感器带来的停机损耗。

MKS 针对臭氧强氧化工况优化接液材质，传感膜片与接触介质腔体均选用高性能镍合金材料，抗氧化能力突出，可抵御臭氧持续氧化侵蚀，不易产生氧化层剥落。整体采用全焊接无垫片结构，取消橡胶、塑料等易被臭氧氧化的非金属密封元件，消除密封件老化失效的薄弱环节，从结构上规避介质泄漏风险。

核心传感元件为径向张拉镍合金膜片，经预张拉时效处理，迟滞低、抗疲劳，压力反复循环下保持出色重复性。电容式传感原理具备气体无关特性，仅响应压差带来的膜片力学形变，测量结果不受介质组分、分子量影响，在臭氧介质环境中依旧维持高精度与快速压力响应。内置吸气剂持续维持参考腔高真空基准，抑制长期运行零点漂移，保证长时间连续生产输出稳定。

产品覆盖多档真空量程，支持标准工业模拟信号输出，可直接对接真空控制器、PLC 自动化控制系统。出厂执行多点读数标定，全量程测量精度可溯源。即便具备耐臭氧性能，也应避免长时间超高浓度臭氧持续冲击，减缓材料老化速度。

耐臭氧介质能力使该压力计无需增设复杂隔离装置，直接接入臭氧工艺管路，简化真空系统设计。凭借抗氧化镍合金接液结构、全焊接密封腔体、气体无关电容传感、低迟滞张拉膜片，MKS 电容压力计是半导体臭氧类氧化工艺真空压力监测的核心精密仪器。