【简介】MKS美国-电容压力计-耐受蒸汽与去离子水
镍合金全焊接接液腔体抗水汽侵蚀，无易老化非金属密封件，气体无关电容传感，适配半导体湿法及蒸汽真空工况压力监测。

MKS美国-电容压力计-耐受蒸汽与去离子水

MKS美国-电容压力计-耐受蒸汽与去离子水

MKS 美国电容压力计具备良好的蒸汽与去离子水耐受能力，采用镍合金全焊接一体化接液腔体，可抵御水汽、高温蒸汽与去离子水的侵蚀，适配半导体腔体蒸汽吹扫、湿法工艺、水汽等离子等含湿真空工况，在含水介质环境中稳定采集压力信号，保障真空系统压力监测长期可靠。

半导体制造中经常使用蒸汽吹扫腔体、水汽等离子处理以及去离子水相关工艺，这类工况下，水汽与高温蒸汽极易渗透腐蚀普通传感器。常规压力计配备橡胶或塑料密封件，长期接触水汽会发生溶胀、老化、开裂，不锈钢材质也容易出现水汽诱发的点蚀，造成真空泄漏、膜片损坏，进而出现压力读数漂移，脱落杂质污染工艺腔体，降低晶圆良率，增加设备更换与停机成本。

MKS 针对含水介质工况优化接液方案，传感膜片与介质接触腔体均采用高性能镍合金，耐水汽腐蚀，可抵御高温蒸汽、去离子水带来的电化学侵蚀，不易发生锈蚀与点蚀。整体采用全焊接无垫片结构，去除橡胶、塑料等易被水汽侵蚀的非金属密封件，消除密封件溶胀失效的薄弱点，从源头规避水汽引发的泄漏风险。

核心传感元件为径向张拉镍合金膜片，经预张拉时效处理，迟滞低、抗疲劳，反复压力循环下保持优异测量重复性。电容传感原理具备气体无关特性，仅响应压差带来的膜片力学形变，测量结果不受介质组分影响，在含水汽、蒸汽环境下依旧维持高精度与快速压力响应。内置吸气剂持续维持参考腔高真空基准，抑制长期运行零点漂移，保障长周期连续生产输出稳定。

产品覆盖多档真空量程，支持标准工业模拟信号输出，可直接对接真空控制器、PLC 自动化控制系统。出厂执行多点读数标定，全量程测量精度可溯源。虽具备耐水汽能力，仍需避免长时间高温高压蒸汽持续冲击，减缓材料老化。

耐受蒸汽与去离子水的特性，使压力计可直接接入含水汽工艺管路，无需额外隔离装置，简化真空系统搭建。凭借耐水汽镍合金接液结构、全焊接无垫片腔体、气体无关电容传感、低迟滞张拉膜片，MKS 电容压力计是半导体含水汽真空工艺压力监测的核心精密仪器。