【简介】BROOKS 布鲁克斯-真空测量仪-适配高纯气
接液材质洁净无析出，不污染气路，可稳定监测半导体高纯气体环境下腔体真空度

BROOKS 布鲁克斯-真空测量仪-适配高纯气

BROOKS 布鲁克斯-真空测量仪-适配高纯气

BROOKS 布鲁克斯真空测量仪可适配各类高纯工艺气体，接液材质洁净无析出，不会引入杂质污染气路与腔体，能够稳定监测半导体高纯气体环境下的腔体真空度，满足精密制程对气体纯度的严苛管控。

半导体薄膜沉积、离子注入等工艺大量使用高纯氮气、氩气等特种高纯气体。高纯工艺体系对杂质、金属析出、颗粒物控制标准，任何仪表释放的微量杂质，都会破坏气体纯度，造成晶圆表面污染，引发薄膜缺陷、工艺批次波动。普通真空测量仪内部材料存在析出风险，接触高纯气体时容易释放微量污染物，破坏腔体洁净环境，同时传感器易受高纯气体环境影响产生测量漂移，无法精准捕捉真空压力变化。

布鲁克斯真空测量仪针对高纯气体工况做材料与结构优化，接液部件选用高纯度金属材料，经过精密抛光与表面钝化处理，大幅降低材料析出风险，不会向高纯气路释放金属离子与有机杂质。仪表内部无橡胶类易析出密封件，气路通道光滑，减少气体吸附与残留，保障通入腔体的高纯气体品质不受仪表影响。传感组件经过特殊筛选，在高纯气体氛围下保持稳定测量性能，抑制气体组分带来的测量偏差。

产品兼具高精度、宽量程、快速响应、抗颗粒污染等优势，全真空区间重复性优异。支持标准信号输出，可接入 PLC、DCS 自动化系统，实现真空数据实时采集与工艺联锁。全金属腔体气密性佳，漏率低，搭配标准化真空接口，方便集成在高纯气真空模组与工艺腔体，适配洁净车间安装环境。

在使用高纯气体的半导体制程中，仪表本身的洁净度是保障产品良率的关键。布鲁克斯适配高纯气的真空测量仪，在不污染工艺气体的前提下持续采集真空参数，及时预警真空泄漏与压力异常，保障高纯气氛下工艺环境稳定。

依托高洁净接液材质与低析出结构设计，该真空计解决普通仪表易析出杂质、污染高纯工艺气体的痛点，保护腔体与晶圆不受杂质污染，延长维护周期，降低不良品率，是高纯气体真空工艺监测的优选设备。