产品介绍MKS美国-电容压力计-美国原厂
MKS美国-电容压力计-美国原厂
MKS 美国原厂 Baratron® 电容压力计是精密真空与压力测量产品,采用电容膜片传感原理,直接检测压力产生的物理形变,测量结果不受被测气体组分影响,区别于热传导类真空规,不会因气体种类改变读数偏差,是半导体、真空工艺的标准压力监测元件。
传感器膜片采用 Inconel 镍基合金全焊接结构,无钎焊接缝,耐腐蚀性优异,可适配含卤素、水汽、微量酸性介质的严苛工艺环境。膜片组件出厂 100% 完成检漏测试,即便出现膜片破损,工艺气体也可被封闭在传感器内部,提升设备与人员安全。产品覆盖多档量程,从低真空至中高压区间均可选型,部分型号自带恒温控温结构,消除环境温度波动带来的测量漂移,保障长期读数稳定。
产品具备高精度、低迟滞、高重复性特性,测量精度以读数值百分比标定,低压段测量性能突出,分辨率可达满量程万分之一级别。标配 0~10VDC 线性模拟信号输出,也可提供数字通讯版本,信号线性度好,便于接入 PLC、工控主机实现工艺压力闭环调节。内置高真空参考腔,实现绝对压力测量,无需大气压补偿,省去外部基准校正环节。
在半导体、真空镀膜、真空冻干、材料热处理等工艺场景,腔体压力的微小波动直接影响产品良率。传统真空规受气体种类干扰,难以稳定控制工艺;MKS Baratron 电容压力计作为工艺压力基准,持续输出精准压力信号,支撑腔室压力闭环控制,稳定制程一致性。同时设备具备可靠过压防护能力,短时超压不易造成膜片形变,降低工艺异常带来的传感器损坏风险。
美国原厂整机制造与标定,出厂附带原厂校准证书,一致性品质可控。结构紧凑,安装接口标准化,可快速集成到各类真空腔体、工艺管路。广泛用于半导体刻蚀、薄膜沉积、真空镀膜、科研真空平台、冻干设备等领域。依托 MKS 原厂电容压力计优异的测量稳定性与耐蚀结构,实现高精度压力监控,保障精密工艺重复性,降低制程波动,提升产品良率,是真空系统压力测量的核心传感方案。
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