【简介】MKS美国-电容压力计-绝压测量
以内部真空为基准，无需大气压补偿，测量不受气体影响，用于真空工艺精准绝对压力监测。

MKS美国-电容压力计-绝压测量

MKS美国-电容压力计-绝压测量

MKS Baratron 电容压力计核心特性为绝压测量，传感器内部预置密封的高真空参考腔，以腔内高真空作为零点基准，直接测量介质的绝对压力，无需进行大气压补偿，规避环境气压波动带来的测量误差，为各类精密真空工艺提供稳定的绝压监测数据。

传感器膜片一侧接触被测工艺气体，另一侧为预先抽成高真空并全焊接密封的参考腔。当被测侧压力发生改变，膜片两侧产生压差，引发弹性形变，膜片与固定电极之间电容间隙随之变化，传感电路采集电容信号并转换成对应的绝对压力值。该测量原理直接反映真实压力，不同于表压传感器，不会随现场大气压力昼夜、季节变化产生零点漂移。

在真空工艺场景，表压压力计必须实时采集当地大气压做换算，一旦大气压力信号异常，绝压计算就会出现偏差。而 MKS 电容压力计内置真空基准，开机即可读取准确绝对压力，省去大气压采集与补偿环节，简化系统架构。同时测量只识别压力带来的机械形变，不受气体分子量影响，氮气、氩气、混合工艺气体都无需额外气体修正，大幅降低现场调试工作量。

半导体刻蚀、薄膜沉积、真空镀膜等工艺对腔体绝对压力控制要求严苛，微小绝压偏差就会改变反应速率，造成薄膜厚度不均、刻蚀深度不一致，降低成品良率。该绝压测量方案可捕捉真空区间微弱压力变化，配合 PLC 实现压力闭环控制，稳定制程参数。部分型号搭载恒温模块，抑制温度变化造成膜片形变，进一步巩固绝压测量长期稳定性。镍基合金全焊接膜片耐工艺腐蚀，同时具备过压防护，抵御短时压力冲击，防止膜片变形。

产品支持模拟与数字信号输出，接口标准化，集成便捷，广泛用于半导体、真空热处理、医药冻干、科研真空平台。依托 MKS 电容压力计绝压测量能力，系统省去大气压采集组件，减少误差来源，持续输出精准可靠的绝对压力数据，稳定真空工艺重复性，降低批次波动，是真空系统绝压监测的核心传感方案。